器件,器件變,微電子器件,制造半導體器件類技術資料(168元/全套)歡迎選購！請記住本套資料（光盤）售價：168元/全套)；資料（光盤）編號：F313808
敬告：我公司只提供技術資料，不能提供任何實物產品及設備，也不能提供生產銷售廠商信息。
[7436-0007-0001] 光掩模傳送支撐座及光掩模傳送方法
[摘要] 本發明提供一種光掩模傳送支撐座(reticle transferring support)。該光掩模傳送支撐座包括有一支撐基座用來容納一光掩模，多個支撐點用來支撐該光掩模，以及多個固定架用來固定該光掩模。該各支撐點是由軟性塑膠材質組成的橢圓形結構，并可調整位置避免在該光掩模背面造成刮痕。該各固定架內側為一傾斜面，可在載入光掩模時自動固定該光掩模的位置。
[7436-0190-0002] 光敏金屬納米顆粒和用其形成導電圖案的方法
[摘要] 光敏金屬納米顆粒和用其形成導電圖案的方法，其中，具有末端活性基團的硫醇或異氰化物化合物的自組裝單分子層形成于光敏金屬納米顆粒表面上，并且光敏基團引入到該末端活性基團。所述光敏金屬納米顆粒通過暴露在光下能夠容易地形成具有優異導電率的導電性膜或圖案，因此，可以用于以下領域：抗靜電的可洗的粘性墊子或鞋子、導電性聚氨酯印刷機滾筒、電磁干擾屏蔽等。
[7436-0148-0003] 利用多投影掩模制造多個電路圖案的方法和設備
公開一種制備具有多個電路圖案的基體的方法和設備。所述基體受到具有被一個或多個隔斷區環繞的多個所需電路圖案的主掩模，及具有對應于隔斷區，滿足后續處理的至少一個設計規則的圖案的輔助掩模的影響。在對光致抗蝕劑圖案顯影之前，按照任意順序在基體上曝光主掩模和輔助掩模。輔助掩模上的圖案滿足一個以上處理層面的設計規則，從而單個輔助掩模可被用于多個處理層面。另外，對于隔斷區違反設計規則的處理層面來說，基體只需暴露于輔助掩模之下。
[7436-0068-0004] 含有苯酚-亞聯苯基樹脂的負型光敏樹脂組合物
[摘要] 提供負型光敏樹脂組合物。該負型光敏樹脂組合物含有酚醛清漆樹脂和苯酚-亞聯苯基樹脂，以及環氧化合物。這些樹脂組合物具有優異的對硬化樹脂材料的抗熱沖擊性。
[7436-0103-0005] 氫氧化四甲銨顯影液的回收系統及其方法
[摘要] 本發明提供一種氫氧化四甲銨(TMAH)顯影液的回收方法，用于顯影后的回收液中TMAH的濃度調整，包含下列步驟：在220nm至250nm間選擇m個波長；測定回收液在該m個波長的吸收度，分鷂猋1至Ym，并測定回收液在210nm吸收度A1；將該m個吸收度與其對應波長帶入n次多項式，以求得對應的波長-吸收曲線[Y＝C1Xn+…+Cn-1X+Cn]；將波長210nm帶入該波長-吸收曲線以得到吸收度Y210；計算A1與Y210的差值，得到回收液中的TMAH吸光值A3；以TMAH在210nm的標準濃度吸光曲線求出吸光值A3對應的濃度；根據該濃度添加適量的TMAH至回收液達到標準TMAH濃度值為止；以及，以該調整過的回收液進行顯影過程。
[7436-0106-0006] 防止液體回濺的裝置
[摘要] 本發明提供一種防止一液體回濺至一物體上的裝置，尤其是涉及一種應用于顯影制作工藝的防止回濺裝置，其至少包括：一旋轉器，其上放置上述的物體，利用旋轉器的旋轉運動，使物體與液體分離；一側壁，其環繞于旋轉器的周圍，以防止液體飛濺至側壁之外；以及一緩沖棉，其貼于側壁的內側，以防止液體由側壁回濺至物體上。
[7436-0098-0007] 形成光刻用防反射膜的組合物
[摘要] 本發明涉及在半導體器件制造的光刻工藝中使用的形成防反射膜的組合物，該組合物含有具有5000或其以下重均分子量的聚合物(A)，和具有20000或其以上的重均分子量的聚合物(B)。該組合物提供在有孔和溝槽的凹凸不平的基板上的段差被覆性優異，防反射光效果高，而且不發生與抗蝕劑層的混和，可以得到優異的抗蝕劑圖案，具有比抗蝕劑更大的干蝕刻速度的光刻用防反射膜。
[7436-0047-0008] 光刻法中使用的涂敷了氟聚合物的光學掩模
[摘要] 介紹了用于光刻工藝的光學掩模，它在表面上含有保護性無定形聚(氟碳)膜，還描述了經涂敷光掩模版的制備方法，以及它們在光刻工藝中的應用。
[7436-0194-0009] 用于顯示面板的墊片、輻射敏感樹脂組合物和液晶顯示器
[摘要] 一種顯示面板墊片，它能在常溫和高溫下保持基體之間的間隙寬度恒定，能不受溫度變化的影響而始終確保優異的顯示質量。該墊片具有高于2.0×10-4/℃和8.0×10-4/℃或者更低的線性熱膨脹系數。制造該墊片的輻射敏感樹脂包括(a1)不飽和羧酸和/或不飽和羧酸酐與(a2)除了組分(a1)之外的不飽和化合物的共聚物【A】、多官能不飽和單體【B】和輻射敏感聚合引發劑【C】。一種包括以上墊片的液晶顯示器。
[7436-0166-0010] 光刻裝置，器件制造方法，以及由此制造的器件
[摘要] 一種光刻投影裝置，包括：用于提供輻射投射光束的輻射系統；用于支撐構圖部件的支撐結構，所述構圖部件用于根據所需的圖案對投射光束進行構圖；基底保持器包括多個突起，該突起限定了一種突起結構，這種結構用于為支撐基本上平的基底而提供基本上平的支架平面，該基底保持器包括用于產生電場的至少一個夾緊電極，通過所述電場將基底夾靠在基底保持器上；基底保持器進一步包括設置為接觸基底的外圍支撐邊緣；以及用于將帶圖案的光束投射到基底的目標部分上的投影系統。根據本發明，所述至少一個基底伸出所述外圍支撐邊緣。
[7436-0195-0011] 光刻膠靈敏度的評價方法和光刻膠的制造方法
[7436-0109-0012] X射線光刻對準標記圖形
[7436-0159-0013] 用于平板顯示器的像差可校正大視場投影光學系統
[7436-0155-0014] 光刻裝置和器件制造方法
[7436-0016-0015] 光敏樹脂組合物和應用該組合物形成樹脂圖形的方法
[7436-0030-0016] 紅移單-和雙-酰基氧化膦和硫化膦及其作為光引發劑的應用
[7436-0041-0017] 圖形形成方法及曝光裝置
[7436-0009-0018] 化學增幅光阻劑組成物
[7436-0107-0019] 濕蝕刻裝置
[7436-0167-0020] 光致抗蝕劑剝離液組合物及使用光致抗蝕劑剝離液組合物的光致抗蝕劑的剝離方法
[7436-0136-0021] 剝離抗蝕劑的方法
[7436-0074-0022] 用于對物體進行輻射的粒子-光學裝置
[7436-0003-0023] 光刻設備、裝置制造方法和計算機程序
[7436-0014-0024] 在蝕刻處理后移除聚合物的方法
[7436-0093-0025] 激光光繪機負壓式全自動上下片裝置
[7436-0001-0026] 排出噴嘴式涂布法用正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖的形成方法
[7436-0023-0027] 光刻裝置，設備制造方法和角編碼器
[7436-0076-0028] 表面處理裝置
[7436-0118-0029] 感光材料的排放部件和涂覆裝置以及涂覆感光層的設備
[7436-0199-0030] 正型抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法
[7436-0049-0031] 采用準分子激光制備高聚物基生物芯片微流路結構的方法和系統
[7436-0201-0032] 用于接觸孔掩模的光學逼近校正設計的方法
[7436-0145-0033] 感光性樹脂前體組合物
[7436-0052-0034] 具有洗邊裝置的顯影機臺
[7436-0137-0035] 用于對準或重疊的標記結構，限定它的掩模圖案及使用該掩模圖案的光刻投影裝置
[7436-0088-0036] 蝕刻方法和用于形成蝕刻保護層的組合物
[7436-0198-0037] 化學增幅型正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法
[7436-0127-0038] 光致抗蝕劑聚合物與含有該光致抗蝕劑聚合物的光致抗蝕劑化合物
[7436-0192-0039] 感光性轉印片、感光性層合體、圖像花樣的形成方法以及布線花樣的形成方法
[7436-0139-0040] 加熱處理裝置的溫度校正方法、顯影處理裝置的調整方法和半導體器件的制造方法
[7436-0154-0041] 具有箔俘獲的激光產生的等離子輻射系統
[7436-0054-0042] 金屬掩模板
[7436-0156-0043] 對NA-σ曝光設置和散射條OPC同時優化的方法和裝置
[7436-0202-0044] 圖案繪制裝置
[7436-0175-0045] 圖形制造系統、曝光裝置及曝光方法
[7436-0043-0046] 具有群組補償能力的曝光系統及方法
[7436-0033-0047] 一種電子束化學增幅正性抗蝕劑及其制備方法和光刻工藝
[7436-0120-0048] 裝置制造方法,掩模組,數據組,掩模圖案化方法及程序
[7436-0004-0049] 烘烤系統
[7436-0097-0050] 反應顯影布圖方法
[7436-0069-0051] 光致抗蝕劑組合物及其制備方法
[7436-0056-0052] 一種紫外曝光機及其曝光量自動控制方法及其裝置
[7436-0099-0053] 制作微電子器件的工藝
[7436-0168-0054] 光致抗蝕劑剝離液組合物及使用光致抗蝕劑剝離液組合物的光致抗蝕劑的剝離方法
[7436-0022-0055] 光刻裝置，器件制造方法，掩模以及確定掩模和/或薄膜特征的方法
[7436-0104-0056] 一種電子束縮小投影曝光成像系統
[7436-0059-0057] 在氣體環境中執行曝光處理的基片處理系統
[7436-0091-0058] 感光樹脂組合物
[7436-0184-0059] 用于除去感光樹脂的稀釋劑組合物
[7436-0164-0060] 用于次半波長光刻構圖的改善的散射條OPC應用方法
[7436-0077-0061] 光刻裝置及器件制造方法
[7436-0083-0062] 確定工藝步驟的特征的方法和器件制造方法
[7436-0010-0063] 光刻裝置中質量體的位置控制
[7436-0086-0064] 校準光刻裝置的方法,對準方法，計算機程序，光刻裝置和器件制造方法
[7436-0113-0065] 聚合物和含有該聚合物的光刻膠
[7436-0141-0066] 灰調掩模的制造方法
[7436-0100-0067] X射線光刻與光學光刻混合制作T型柵的方法
[7436-0021-0068] 光刻設備及裝置制造方法
[7436-0055-0069] 一般波長或長波長光接觸接近納米光刻光學裝置
[7436-0058-0070] 一次掃描兩個普通曝光區域的曝光方法
[7436-0050-0071] 薄膜晶體管的制造方法
[7436-0071-0072] 正型抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法
[7436-0162-0073] 曝光裝置
[7436-0096-0074] 用于液晶設備的正型光刻膠組合物
[7436-0128-0075] 間隙體用感光性樹脂組成物
[7436-0037-0076] 光敏性樹脂組合物
[7436-0090-0077] 負作用水性光刻膠組合物
[7436-0087-0078] 一種包括傳感器的組件，其制造方法及光刻投影設備
[7436-0152-0079] 光刻裝置、器件制造方法以及由此制造的器件
[7436-0170-0080] 印刷原版用沖孔裝置
[7436-0178-0081] 感光性轉印片、感光性層合體、圖像花樣的形成方法以及布線花樣的形成方法
[7436-0143-0082] 光聚合型平版印刷版
[7436-0035-0083] 模板和光學特征測量方法
[7436-0101-0084] X射線掩模與石英環紫外固化裝置及使用方法
[7436-0065-0085] 圖像形成用感光性樹脂組合物
[7436-0005-0086] 光致抗蝕劑移除組合物
[7436-0140-0087] 具有主支柱和輔助支柱的模版掩模及其形成方法
[7436-0150-0088] 光刻裝置及器件制造方法
[7436-0025-0089] 用于光刻膠的感光樹脂組合物
[7436-0135-0090] 正型光刻膠組合物及光刻膠圖案形成方法
[7436-0158-0091] 使用倒置晶片投射光學接口的浸漬光刻系統及方法
[7436-0006-0092] 用于EUV光刻的掩模版及其制作方法
[7436-0193-0093] 正型感光性樹脂組合物、樹脂膜的制造方法、半導體裝置和顯示元件及其制造方法
[7436-0126-0094] 平版印刷板材料和平版印刷板材料的制備方法
[7436-0181-0095] 光刻裝置和裝置調節方法
[7436-0073-0096] 為用于深的亞波長光刻的掩模原版圖案提供光學逼近特征的方法和裝置
[7436-0075-0097] 改進的圖形發生器反射鏡結構
[7436-0183-0098] 無掩模微成影中用時間和/或功率調制獲得劑量灰度化
[7436-0015-0099] 多層光致抗蝕劑系統
[7436-0062-0100] 多層光致抗蝕劑系統
[7436-0174-0101] 用于圖案細微化的涂膜形成劑和使用該形成劑形成細微圖案的方法
[7436-0042-0102] 曝光系統及方法
[7436-0171-0103] 放射線敏感性電容率變化性組合物和電容率圖案形成方法
[7436-0060-0104] 二元光學器件變灰度掩模制作方法及裝置
[7436-0129-0105] 正型感光性樹脂組成物
[7436-0027-0106] 集成電路光刻設備的磁懸浮精密工件臺
[7436-0130-0107] 微透鏡的制造方法
[7436-0177-0108] 導光板模仁制造方法
[7436-0149-0109] 使用包括衍射光學元件的照明系統制造半導體器件的方法
[7436-0019-0110] 在任意尺寸的柔順介質上復制高分辨率三維壓印圖案的方法
[7436-0157-0111] 光刻裝置和器件制造方法
[7436-0039-0112] 減少透鏡像差與圖案移位的光罩與方法
[7436-0185-0113] 具有雙嵌附層的減光型相移光罩及其制作方法
[7436-0121-0114] 裝置制造方法
[7436-0144-0115] 平板印刷板前體和平板印刷方法
[7436-0125-0116] 可降低光學接近效應的光罩
[7436-0180-0117] 帶電粒子束曝光裝置和方法以及使用該裝置的器件制造方法
[7436-0038-0118] 相移波紋聚焦監視器
[7436-0094-0119] 黑色矩陣用感光性樹脂組成物
[7436-0123-0120] 防蝕顯影組合物
[7436-0131-0121] 基板型顯像裝置
[7436-0173-0122] 光敏膜和印刷線路板用光敏組合物及其生產方法
[7436-0057-0123] 最小尺寸為納米量級圖形的印刻法制備工藝
[7436-0034-0124] 準分子激光電化學微結構制造方法及其裝置
[7436-0153-0125] 光刻裝置的校準方法和器件制造方法
[7436-0163-0126] 光刻裝置以及器件制造方法
[7436-0081-0127] 控制系統、光刻裝置、器件制造方法以及由此制造的器件
[7436-0110-0128] 包括二疊氮醌硫酸酯化合物的感光樹脂組合物
[7436-0189-0129] 著色感光性樹脂組合物
[7436-0013-0130] 平板印刷設備、器件制造方法和計算機程序
[7436-0182-0131] 多層反射遠紫外線光刻掩模坯件
[7436-0089-0132] 正感光性聚酰亞胺樹脂組合物
[7436-0072-0133] 排出噴嘴式涂布法用正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法
[7436-0078-0134] 光刻裝置和器件制造方法
[7436-0066-0135] 固化樹脂圖案的形成方法
[7436-0092-0136] 一種用于展寬顯示屏幕視角的光學薄膜的制備方法
[7436-0029-0137] 正性光敏樹脂組合物、制備正性光敏樹脂組合物的方法及半導體設備
[7436-0053-0138] 形成無側葉現象的光致抗蝕劑層的方法
[7436-0085-0139] 光刻裝置，器件制造方法和由此制造的器件
[7436-0160-0140] 光刻裝置及集成電路制造方法
[7436-0046-0141] 在曝光對位制造工藝中去除彩色光阻的方法
[7436-0045-0142] 液晶顯示面板前段陣列制造工藝中第一道黃光暨蝕刻方法
[7436-0116-0143] 正型光阻劑組合物及形成光阻圖樣的方法
[7436-0079-0144] 用于直接寫入光刻的產生可變間距嵌套線或接觸孔的方法
[7436-0095-0145] 微光學器件數字分形掩模制作方法
[7436-0048-0146] 微細圖案形成材料及微細結構的形成方法
[7436-0161-0147] 光刻投影裝置和器件制造方法
[7436-0061-0148] 表面等離子體共振圖像分析金膜點陣列的制備方法
[7436-0191-0149] 系統LCD制造用正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法
[7436-0186-0150] 用于設計數字變形線條網屏的系統和方法
[7436-0112-0151] 光刻投影組件、裝載鎖閉裝置和轉移物體的方法
[7436-0044-0152] 防止回濺的裝置與方法
[7436-0138-0153] 用于使得存儲器陣列區域小型化的布局方法
[7436-0111-0154] 接觸孔洞光學鄰近效應修正和掩模及半導體裝置制造方法
[7436-0204-0155] 去除光罩遮光缺陷的方法及其半導體裝置的制造方法
[7436-0032-0156] 形成光刻用防反射膜的組合物
[7436-0102-0157] 無塵室的制作程序機臺配置
[7436-0018-0158] 感光性樹脂轉印裝置以及方法
[7436-0017-0159] 感放射線性樹脂組合物
[7436-0187-0160] 水溶性負型光阻及其形成光阻圖案的方法
[7436-0179-0161] 感光性樹脂組成物以及其制出的彩色濾光片用透明材料
[7436-0080-0162] 光刻裝置，器件制造方法，以及由此制造的器件
[7436-0119-0163] 基于厚膠光刻的三維微結構加工方法
[7436-0169-0164] 去除TFT-LCD制造工藝中彩色抗蝕劑的剝離組合物
[7436-0064-0165] 著色光敏樹脂組合物
[7436-0146-0166] 著色感光性樹脂組合物
[7436-0051-0167] 在氣體環境中執行曝光處理的基片處理系統
[7436-0165-0168] 光刻構圖裝置的保險機構
[7436-0020-0169] 光刻投影裝置中的聚焦疵點監測
[7436-0070-0170] 用于多個微型噴嘴涂布機的光致抗蝕劑組合物
[7436-0024-0171] 照明器控制的影調反轉印刷
[7436-0011-0172] 投影系統及利用該投影系統的方法
[7436-0203-0173] Z偏移和不垂直照射產生的掩膜物體的Y移位中的位置校正
[7436-0067-0174] 化學放大型光刻膠組合物
[7436-0040-0175] 微影制程
[7436-0142-0176] 灰調掩模的制造方法和灰調掩模
[7436-0105-0177] 不同層次的曝光方法
[7436-0132-0178] 投影曝光設備
[7436-0147-0179] 曝光方法及利用該曝光方法制造用于液晶顯示器的薄膜晶體管基片的方法
[7436-0124-0180] 等離子體反應室
[7436-0188-0181] 用于涂布EUV平板印刷術基底的方法和具有光刻膠層的基底
[7436-0026-0182] 亞砜吡咯烷(啉)酮鏈烷醇胺剝離和清洗組合物
[7436-0031-0183] 用于顯微光刻中的抗反射層
[7436-0133-0184] 化學漂洗組合物
[7436-0134-0185] 環境中耐久的、自密封的光學制品
[7436-0196-0186] 化學增幅型正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖案的形成方法
[7436-0036-0187] 使用反射掩膜的集成電路
[7436-0200-0188] 布線保護膜形成用組合物及其用途
[7436-0108-0189] 光阻剝離方法
[7436-0172-0190] 感光性陶瓷組合物以及使用該組合物的多層基板的制造方法
[7436-0082-0191] 光刻裝置、器件制造方法和由此制造得到的器件
[7436-0115-0192] 黑色矩陣用感光性樹脂組成物
[7436-0197-0193] 正型抗蝕劑組合物及抗蝕圖案的形成方法
[7436-0002-0194] 官能化聚合物
[7436-0176-0195] 導光板模仁的制造方法
[7436-0151-0196] 光刻裝置、器件制造方法和由此制造的器件
[7436-0117-0197] 一種光刻膠涂敷裝置
[7436-0122-0198] 曝光方法和使用這種方法的半導體器件制造方法
[7436-0114-0199] 氟化的硅-聚合物和包含該聚合物的光刻膠
[7436-0084-0200] 光刻裝置，器件制造方法以及該方法制造的器件
[7436-0028-0201] 負性彩色感光組合物
[7436-0012-0202] 具有包括凹面鏡和凸面鏡的聚光器的光刻投影裝置
[7436-0063-0203] 平版印刷裝置和設備的制造方法
[7436-0008-0204] 裝載鎖定裝置，包括該裝置的光刻設備及制造基底的方法
[7436-0205-0205] 可避免電荷效應所導致電子束偏移的光罩制作方法
[7436-0206-0206] 帶狀工件的兩面投影曝光裝置
查詢更多技術請點擊：
中國創新技術網（http://www.887298.com）
金博專利技術網（http://www.39aa.net）

金博技術資料網 （http://www.117298.com）
購買操作說明（點擊或復制） （http://www.39aa.net/index.php?gOo=help_send.dwt）

本部（遼寧日經咨詢有限公司技術部）擁有各種專利技術、技術文獻、論文資料近20萬套500多萬項，所有專利技術資料均為國家發明專利 、實用新型專利和科研成果，資料中有專利號、專利全文、技術說明書、技術配方、技術關鍵、工藝流程、圖紙、質量標準、專家姓名等詳實 資料。所有技術資料均為電子圖書（PDF格式，沒有錄像及視頻），承載物是光盤，可以郵寄光盤也可以用互聯網將數據發到客戶指定的電子郵 箱（網傳免收郵費）。
(1)、銀行匯款：本套資料標價(是網傳價，不包含郵費，如郵寄光盤加收15元快遞費，快遞公司不能到達的地區加 收22元的郵政特快專遞費)匯入下列任一銀行帳號（需帶身份證），款到發貨！
中國農業銀行:9559981010260269913    收款人: 王雷
中國郵政銀行:602250302200014417     收款人: 王雷
中國建設銀行： 0600189980130287777   收款人: 王雷
中國工商銀行:9558800706100203233    收款人: 王雷
中國     銀行：418330501880227509    戶  名：王雷
歡迎通過淘寶、有啊、拍拍等第三方平臺交易， 請與QQ：547978981聯系辦理。
郵局地址匯款：117002遼寧省本溪市溪湖順山科報站   收款人: 王雷
匯款后請用手機短信 （13050204739或13941407298）通知，告訴所需技術光盤名稱、編號、數量及收貨人姓名、郵政編碼和詳細地址。（如需網傳請告郵箱地址或 QQ號）
單位：遼寧日經咨詢有限公司（技術部）
地址：遼寧省本溪市溪湖順山科報站
聯系人：王雷老師
電  話：0414- 2114320   3130161
手  機：13941407298   13050204739
客服QQ：547978981    824312550   517161662

敬告：本公司已通過國際華夏鄧白氏資質認證，查看認證信息請點擊： http://fuqiangxx.b2b.hc360.com/shop/mmtdocs.html
辦理全國范圍貨到付款業務：請與QQ：547978981聯系辦理。

本公司經營技術、資料、工藝、配方，質量保證，歡迎咨詢洽談。