BAM（非對稱雙極脈沖磁控濺射電源）：可單靶或雙靶工作，雙靶工作時兩個靶的材料和尺寸都可以不同，每個靶的濺射電流可分別設定，單靶工作時也可以減少電荷積累引起的異常放電。適合於鍍制碳化物、氧化物、氮化物等膜層，雙靶運用右方便控制膜層成分比。
B系列雙極性電源采用先進的高頻逆變技術，體積小，重量輕，效率高。廣泛應用於真空鍍膜、感應加熱、輝光清洗等領域。提供多種控制接口，方便客戶實現自動控制系統的開發應用
用途 ：● 真空鍍膜 ● 感應加熱 ● 輝光清洗 ● 特殊定制
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