產品特性：
紫外到近紅外光范圍的反射光譜，適用用於多層膜測量及光學常數分析的光乾涉式膜厚測量機。
非接觸式、不破壞樣品，高精度，高再現性。
190nm~1600nm的范圍波長分析。
1nm~250μm薄膜厚度測量。
可對應顯微鏡下的微小測量范圍。
測量項目：
絕對反射率分析 |
多層膜膜厚解析 |
光學常數解析（n:折射率，k:衰減系數） |
應用范圍：
■ 平麵顯示器
液晶顯示器、導電薄膜、OLED
■半導體、化合物半導體
矽半導體、激光半導體、強導電、介電常數材料
■數據儲存材料
DVD、錄影機讀取頭薄膜、磁性材料
■光學材料
濾光片、抗反射膜
■薄膜
抗反射膜
■其它
建築用材料
規格樣式：
| 標準型 | 厚膜對應型 | |
膜厚測量范圍 | 1 nm ~ 40 μm | 0.8 ~ 250 μm | |
波長測量范圍 | 190 ~ 1600 nm | 750 ~ 850 nm | |
感光元件 | 光電二極管陣列512ch | 矩陣型CCD影像感測器512ch | 光電二極管陣列512ch |
光源規格 | D2/I2（紫外-可視光）、D2（紫外光）、I2（可視光） | I2（可視光） | |
電源規格 | AC100V±10V 750VA（自動驅動平臺分） | ||
尺寸 | 481（H）×770（D）×714（W）mm（主體部分） | ||
重量 | 約96kg（主體部分） | ||
測量實例：
新手教學
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