| 品牌：日本大塚電子Photal | 型號：FE-300 | 光源：鹵鎢燈 |
| 波長范圍：300-800（nm） | 焦距：87.8（mm） | 外形尺寸：220*230*483（mm） |
| 重量：10000（g） | 適用范圍：光學薄膜，半導體晶圓膜厚測試 |
產品特色：
薄膜到厚膜的寬測量范圍。
利用反射率光譜解析膜厚。
功能齊全，低價格並不影響高精度測量的表現。
設定與操作的簡易化，短時間內即可上手。
提供價格優惠的固定平臺與可自動對位平臺兩種規格。
非線性最小二乘法、PV法、FFT法等多種膜厚測量手法。
以非線性最小二乘法、解析光學常數(n:折射率，k:衰減系數)。
絕對反射率分析 |
多層膜解析(5層) |
光學常數解析（n:折射率，k:衰減系數） |
■光學薄膜(AR膜、ITO膜等)
■半導體晶圓(光阻、SOI、SiO2等)
| 手動型 | 自動型 | ||
對應樣品尺寸 | 200mm× 200mm | φ300mm | ||
對應膜厚 | 厚膜 | 薄膜 | 厚膜 | 薄膜 |
膜厚測量范圍 | 100nm～40μm | 10nm～20μm | 100nm～40μm | 10nm～20μm |
波長測量范圍 | 400nm～800nm | 300nm～800nm | 400nm～800nm | 300nm～800nm |
膜厚精度*1 | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm |
測量再現性*2 | ±0.05nm | ±0.03nm | ±0.05nm | ±0.03nm |
測量時間 | 0.1s～10s以內 | 0.1s～10s以內 | ||
測量口徑 | 約φ 1.2mm | 約φ 1.2mm | ||
自動對位功能 | 無 | 無 | 有 | 有 |
新手教學
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