薄膜到厚膜的寬測量范圍。
利用反射率光譜解析膜厚。
功能齊全，低價格並不影響高精度測量的表現。
設定與操作的簡易化，短時間內即可上手。
提供價格優惠的固定平臺與可自動對位平臺兩種規格。
非線性最小二乘法、PV法、FFT法等多種膜厚測量手法。
以非線性最小二乘法、解析光學常數(n:折射率，k:衰減系數)。
絕對反射率分析 |
多層膜解析(5層) |
光學常數解析（n:折射率，k:衰減系數） |
■光學薄膜(AR膜、ITO膜等)
■半導體晶圓(光阻、SOI、SiO2等) 手動型 自動型 對應樣品尺寸 200mm× 200mm φ300mm 對應膜厚 厚膜 薄膜 厚膜 薄膜 膜厚測量范圍 100nm～40μm 10nm～20μm 100nm～40μm 10nm～20μm 波長測量范圍 400nm～800nm 300nm～800nm 400nm～800nm 300nm～800nm 膜厚精度*1 ±0.5nm ±0.5nm ±0.5nm ±0.5nm 測量再現性*2 ±0.05nm ±0.03nm ±0.05nm ±0.03nm 測量時間 0.1s～10s以內 0.1s～10s以內 測量口徑 約φ 1.2mm 約φ 1.2mm 自動對位功能 無 無 有 有
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