絕緣膜、半導體絕緣膜生產工藝專利技術資料
01、電容絕緣膜及其制造方法、電容元件及其制造方法和半導體存儲裝置及其制造方法
02、高介電常數絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜疊層電容器及薄膜電容元件的制造方法
03、含有機硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導體裝置
04、絕緣膜以及半導體器件的制造方法
05、含有機硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導體裝置
06、低介電常數絕緣膜的制造
07、絕緣膜的形成方法及其形成系統、半導體裝置的制造方法
08、輻射敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的制備方法
09、在基板上形成絕緣膜的方法、半導體裝置的制造方法和基板處理裝置
10、絕緣膜成形方法、絕緣膜成形裝置和等離子體膜成形裝置
11、半導體集成電路用絕緣膜研磨劑組合物及半導體集成電路的制造方法
12、形成半導體基體上的絕緣膜的方法
13、柵極絕緣膜的形成方法、存儲介質、計算機程序
14、絕緣膜的形成方法
15、形成含硅絕緣膜的CVD方法和裝置
16、TFT-LCD用層間有機絕緣膜用丙烯酸類共聚物樹脂的制造方法
17、檢測絕緣膜的方法和裝置，對其打孔的裝置及控制方法
18、生產絕緣膜的涂料組合物、使用該涂料組合物制備絕緣膜的方法、由其得到的用于半導體器件的絕緣膜及含有該絕......
19、含有有機硅烷、有機硅氧烷化合物形成的絕緣膜用材料、其制造方法和半導體器件
20、形成有機絕緣膜的組合物及用其形成有機絕緣膜圖案的方法
21、形成層間絕緣膜用的射線敏感性樹脂組合物和層間絕緣膜
22、有機硅氧烷樹脂以及使用該有機硅氧烷樹脂的絕緣膜
23、薄膜電容元件用組合物、高介電常數的絕緣膜、薄膜電容元件、薄膜積層電容器、電路和電子儀器
24、形成絕緣性能改進的絕緣膜的方法
25、硅氧烷基樹脂及用其制造的半導體的層間絕緣膜
26、包含鍺的硅氧烷基樹脂和使用該樹脂的半導體器件用間層絕緣膜
27、硅氧烷基的樹脂和使用其制造的半導體器件的層間絕緣膜
28、新穎的硅氧烷基樹脂和使用該樹脂形成的間層絕緣膜
29、半導體裝置的絕緣膜形成方法及半導體裝置
30、基底絕緣膜的形成方法
31、絕緣膜成膜用原料及使用該原料的成膜方法
32、多官能環狀硅酸鹽（或酯）化合物，由該化合物制得的基于硅氧烷的聚合物和使用該聚合物制備絕緣膜的方法
33、光敏性聚酰亞胺樹脂組合物、使用該組合物的絕緣膜、其制造方法及使用絕緣膜的電子器件
34、具有改善的機械特性的絕緣膜合成物
35、有機無機混合絕緣膜的形成方法
36、有機硅酸鹽聚合體和含有該有機硅酸鹽聚合體的絕緣膜
37、層間絕緣膜及其形成方法以及聚合物組合物
38、輻射敏感樹脂組合物，形成有圖案絕緣膜的形成方法，裝配有該膜的有源矩陣板和平板顯示設備，和生產平板顯示......
39、絕緣膜的蝕刻方法
40、在硅基底中形成絕緣膜的方法
41、多孔膜形成用組合物、多孔膜及其制造方法、層間絕緣膜和半導體裝置
42、有機絕緣膜、其制造方法、使用該有機絕緣膜的半導體器件及其制造方法
43、絕緣膜氮化方法、半導體裝置及其制造方法、基板處理裝置和基板處理方法
44、非取向型電磁鋼板的制備方法及所用的絕緣膜形成劑
45、耐熱絕緣膜和絕緣方法
46、有機絕緣膜的蝕刻方法和雙波紋處理方法
47、形成半導體器件的層間絕緣膜的方法
48、用于半導體裝置中的絕緣膜和半導體裝置
49、通過電子束輻射制作絕緣膜線路圖形的方法
50、用犧牲可流動氧化物雙嵌埋形成多共面金屬/絕緣膜的方法
51、介電常數降低的改進二氧化硅絕緣膜及其形成方法
52、金屬高溫絕緣膜
53、形狀記憶合金表面原位制備絕緣膜
54、非取向型電磁鋼板、其制備方法及所用絕緣膜形成劑
55、改進了高溫下收縮性的雙軸取向絕緣膜
56、用于形成絕緣膜的涂料組合物,用此涂料組合物涂覆的未取向電工鋼板,以及在該鋼板上形成該絕緣膜的方法
57、絕緣膜形成用涂料及用該涂料的等離子顯示板的制造方法
58、用于透明絕緣膜的糊料和其制造方法、等離子顯示板和其制造方法
59、絕緣膜的形成方法及半導體器件的制造方法
60、低介電常數絕緣膜及其形成方法,以及使用它的電路
61、柵絕緣膜的形成方法
62、絕緣膜形成材料,絕緣膜,形成絕緣膜的方法及半導體器件
63、低介電常數絕緣膜用組合物、絕緣膜形成方法及電子零件
64、絕緣膜刻蝕裝置
65、絕緣膜的制造裝置
66、含有機硅烷化合物的絕緣膜用材料及其制法及半導體裝置
67、低介電常數絕緣膜形成用材料、低介電常數絕緣膜、低介電常數絕緣膜的形成方法及半導體器件
68、電池以及引線絕緣膜
69、絕緣膜的形成方法和半導體裝置的制造方法
70、一種制備絕緣膜和顯示器的射線敏感組合物
71、含低介電常數絕緣膜的半導體裝置的制造方法
72、絕緣膜用材料，絕緣膜用罩光清漆,以及絕緣膜和采用該膜或該清漆的半導體裝置
73、耐熱性樹脂的預聚體,耐熱性樹脂,絕緣膜和半導體裝置
74、有機硅酸酯聚合物和從其得到的絕緣膜
75、半導體裝置的層間絕緣膜的形成方法
76、絕緣膜材料、多層互連結構及其制造方法和半導體器件的制造方法
77、放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的形成方法
78、一種復合導熱絕緣膜及其制造方法
79、一種制備附著在觸摸屏上絕緣膜的方法
80、絕緣膜形成方法
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