JF-2型X射線晶體分析機能夠提供穩定的X射線光源,特點是利用可控矽和集成電路自動控制系統進行調流調壓,從而獲得一個強而穩定的射線光源.該機射線發生器功率大,整機穩定性高,操作簡單,可靠性強,防護完善,可與各種射線照相機一起構成X射線晶體分析機,或用於其他用途的X射線光源.，廣泛用於冶金,機械,電子,化工,地質,,能源,等科研、企業、大專院校.
X射線晶體分析機，主要用於研究物質內部微觀結構。如：單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數、測定殘餘應力等。
主要參數：
電 源 | AC220V 50HZ 30A |
功 率 | 2 KW |
靶 材 | Cu（可選其他靶材） |
管電壓 | 50 KV（分檔可調） |
管電流 | 50 mA（分檔可調） |
穩定度 | ±1% |
保 護 | 過功率、過電壓、過電流、無水 |
冷 卻 | 循環水、制冷水箱 |
防 護 | 鉛有機玻璃與金屬結構防護罩 |
相 機 | A：德拜相機（粉沫相機）大、小兩種;) B:勞厄相機（平板相機） （相機裝底片；暗室洗底片）上述兩種相機，用戶可自行選配置 |
新手教學
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