本設備是在真空內利用電阻加熱將金屬絲熔融汽化,霧化後分子沉積於玻璃、亞加力、平麵板材表麵形成高反射率的膜層。是制鏡行業理想設備。
主要優點
全自動控制系統,操作更輕松。
雙室設計,精、粗抽分離,工作周期短,能耗低,效率高
逐層式蒸發,降低熱沖擊,避免飛鋁,提高產品質量
用戶除可參照下列常用型號訂貨外,本公司還可根據用戶要求設計各種規格的真空鍍膜機。真空機組也可根據用戶要求進行設計配置。
註:A型為四片、B型為六片、C型為雙室(精、粗抽分離,有效節能提產)
型號性能 | 可鍍工件尺寸(mm) | 配真空機組 | 抽氣時間(min)空載抽大氣至5×10-2Pa | 名義總功率(KW) | 占地麵積(m) |
DZ-2000A | 2000×1500×4 | H-150 ZJ-600 KT-800 2X-8 | ≤6分鐘 | 55 | 6.5×7 |
DZ-2000B | 2000×1500×6 | H-150 ZJ-600 KT-800 2X-8 | ≤6分鐘 | 55 | 7×7 |
DZ-2200A | 2200×1650×4 | H-150 ZJ-1200 KT-800 2X-8 | ≤6分鐘 | 65 | 7×7 |
DZ-2200B | 2200×1650×6 | H-150 ZJ-1200 KT-800 2X-15 | ≤6分鐘 | 71 | 7.5×7 |
DZ-2400A | 2440×1830×4 | H-150 ZJ-1200 KT-1000 2X-15 | ≤6分鐘 | 75 | 8×7 |
DZ-2440B | 2440×1830×6 | H-150×2 ZJ-1200 KT-1000 H-150 ZJ-600 | ≤6分鐘 | 100 | 8×8 |
DZ-3300A | 3300×2140×4 | H-150×2 ZJ-1200 KT-1000 H-150 ZJ-600 | ≤6分鐘 | 140 | 7×8.5 |
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