● 主用途：
1、用於太陽能矽片等半導體矽片的清洗
2、用於FPD業素玻璃、ITO玻璃的清洗。
● 特點：
1、能夠替代三氯乙烷、氟利昂等ODS物質。
2、非離子性。
3、對於玻璃表面物質的去除效果非常好。
4、不會傷害玻璃鍍層以及ITO鍍膜。
● 使用方法：使用1~10%的溶液在室溫~50℃環境下漂洗即可。
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