如需瞭解半導體芯片清洗/封裝/晶片切割制造用 RO反滲透水處理設備價格,需將以下問題告訴我們。
1.要求的產水量,產水量的大小直接影響價格的高低。
2.原水水源(自來水,地下水井水,河水,湖水...),除瞭自來水,其它的水源,需要提供水質報告,水源不一樣,處理的工藝也就有不一樣,價格就有很大的差別;
3.配置(需要高端配置還是一般配置,就是指水泵用國產的還是進口的,反滲透膜用海德能的還是陶氏的...)
4.控制方式(用PLC全自動控制,機頭控制或是手動控制,自動運行)
5.出水水質要達到什麼標準,電導率或電阻率要達到多少,有什麼用途
如果不知道,也沒關系,告訴我們您是做什麼產品的,綠健水處理公司給您設計出完全符合您生產要求的方案。
去離子水設備工藝流程:
1、新工藝一:
a.原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→軟化器→5U精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→中間儲水箱→混床增壓泵→混床→終端微孔精密過濾→用水點(25℃,在線監測水質,電阻率可達到1~15MΩ.cm,即電導率1~0.06μs/㎝)
b.原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→5U精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→中間儲水箱→混床增壓泵→混床→終端微孔精密過濾→用水點(25℃,在線監測水質,電阻率可達到1~15MΩ.cm,即電導率1~0.06μs/㎝)
2、新工藝二:
a.原水箱→增壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化器→5U精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→中間儲水箱→混床增壓泵→普通混床→拋光混床→終端微孔精密過濾→用水點(25℃,在線監測水質,電阻率可達到10~18MΩ.cm,即電導率0.1~0.055μs/㎝)
b.原水箱→增壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→5U精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→中間儲水箱→混床增壓泵→普通混床→拋光混床→終端微孔精密過濾→用水點(25℃,在線監測水質,電阻率可達到10~18MΩ.cm,即電導率0.1~0.055μs/㎝)
3、新工藝三:
原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性碳炭過濾器→軟化器→PH調節→5U精密過濾器→RO高壓泵→RO反滲透系統→中間儲水箱→EDI增壓泵→EDI電去離子主機→終端0.22U微孔精密過濾→UV紫外線殺菌→用水點(25℃,在線監測水質,電阻率可達到10~15MΩ.cm,即電導率0.1~0.066μs/㎝)
原文地址:http://www.lvjianwater.com
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