商品代碼:787433

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    商品詳細說明

    半導體激光打標機          

    激光打標機原理

    激光打標機是利用聚焦後高能量的激光束照射在物體表面,激光被吸收後光能瞬間轉變成熱能,使物質表面蒸發露出深層物質,或是通過能導致表層物質的化學物理變化而“刻”出痕跡,或是通過光能燒掉部分物質,顯出需要刻的圖行、文字,形成永久的標記。

    半導體側面泵浦固體激光打標機原理

    半導體打標機是使用國際上先進的激光技術,用波長為808nm的半導體激光二極管泵浦NdYAG晶體,使晶體產生大量的反轉粒子,在Q開關作用下形成波長為1064nm的高能量激光脈沖輸出。通過電腦控制振鏡偏轉改變激光束光路實現自動打標。

    設備特點

    激光器體積小

    電光轉換效率高,性能穩定。

    激光光斑小,標記線條精細。

    功能低激光器使用壽命更長。

     

    行業運用

    可標記金屬及多種非金屬。適合應用於一些要求更精細、精度更高、打深度的加工場合。

    廣泛應用與電子元器件、集成電路(IC)、電工電器、手機通訊、五金制品、工具配件、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車配件、朔膠按鍵、建材、食品及藥品包裝、PVC管材、醫療器械等行業。

     

    半導體激光打標機系統性能指標

     

    最大激光功率

    YW-30W

    YW-A50W

    YW-A75W

    激光波長

    1064nm

    1064nm

    1064nm

    光束質量(m2

    3

    5

    6

    激光重復頻率

    50KHz

    50KHz

    50KHz

    標準雕刻范圍

    100×100 mm

    100×100 mm

    100×100 mm

    選配雕刻范圍

    50×50?250×250 mm

    50×50?-250×250 mm

    50×50?250×250 mm

    雕刻深度

    0.3mm

    0.5mm

    0.8mm

    雕刻線速

    7000 mm/s

    7000mm/s/10000mm/s

    7000mm/s/10000mm/s

    最小線寬

    0.01mm

    0.015mm

    0.025mm

    最小字符

    0.2mm

    0.3mm

    0.4mm

    重復精度

    ±0.003mm

    ±0.003mm/±0.002mm

    ±0.003mm/±0.002mm

    整機耗電功率

    1.8KW

    2.0KW

    2.5KW

    電力需求

     

    220V/單相/50Hz/15A

     

     

    系統外形尺寸(長×量×高)

    主機系統:880mm×950 mm×1040 mm

    冷卻系統:550mm×400 mm×740 mm



    新手教學
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