水熱合成反應釜(密閉空間高溫高壓反應專用)
水熱合成反應器(壓力容彈)
水熱合成反應釜(又稱消解罐、消化罐、高壓消解罐、、水熱釜、壓力溶彈),應用於氣相、液相、等離子光譜質譜(ICP–MS)、原子吸收和原子熒光等化學分析方法的樣品前處理,用於食品、地質、冶金、環保、商檢、化工、核工等系統,消解農殘、食品、稀土、水產品等有機物中Pb、Cu、Zn、Fe、Ga、Rb、Hg等重金屬,以及納米材料、化合物合成、晶體生長等方麵。
當高壓反應釜壓力低於6MPa時,采用墊片密封,壓力高於6MPa時采用金屬雙線密封,攪拌采用靜密封強磁力攪拌,可配多種攪拌漿。采用電加熱形式,特殊要求可以製成防爆加熱器。
規格:25ml、50ml、100ml、150ml、200ml、500ml、1000ml
材質:304/316/316L不銹鋼(可選特殊材料)另可根據用戶需求定做。
壓力:-0.1~30MPa(特殊要求另議)
溫度:≤260度(特殊要求另議)
內襯:具四氟乙烯(F4),耐強酸強堿和其他有機溶劑
操作方法:
當反應物系有腐蝕性時要將其置於四氟襯套內,方可保證釜體不受腐蝕。將水熱合成反應釜置於加熱器內,按照規定的升溫速率升溫至所需反應溫度(小於規定的安全使用溫度)。待反應結束將其降溫時,也要嚴格按照規定的降溫速率操作,以利安全和反應釜的使用壽命。當確認腹內溫度低於反應物系種溶劑沸點後方能打開釜蓋進行後續操作。
每次水熱合成反應釜使用後要及時將其清洗乾凈,以免銹蝕。
釜體、釜蓋線密封處要格外註意清洗乾凈,並嚴防將其碰傷損壞。
型號 | 容積 (ml) | 內襯 | 尺寸 (mm) (外徑*高度) | 材質 | 耐壓 (Mpa) | 密封形式 | 溫度 |
MCDT-25 | 25 | 聚四氟 乙烯PTFE或者PPL | 55*14 | 304 316 316L 其他合金材質 | 10Mpa 20Mpa 30Mpa可選 | ≤6Mpa,墊片密封,≥6Mpa,金屬雙線密封 | 常用溫度≤260℃,>260℃定做 |
MCDT-50 | 50 | 68*15 | |||||
MCDT-100 | 100 | 77*155 | |||||
MCDT-150 | 150 | 90*175 | |||||
MCDT-200 | 200 | 101*210 | |||||
MCDT-500 | 500 | 122*240 | |||||
MCDT-1000 | 1000 | 180*270 | |||||
備註:一套水熱合成反應釜包括不銹鋼釜體,不銹鋼釜蓋,不銹鋼上墊片,不銹鋼下墊片,不銹鋼螺桿,內襯 |
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