光電流成像系統(Photon Current Imaging)

          光電流成像、拉曼成像，PL mapping，三合一！

韓國NANObase公司專業生產光電流光譜成像系統，為科學和工業領域提供最高性價比光電流成像解決方案。產品具有如下特點：

超高性價比激光掃描光譜成像系統！可做拉曼光譜成像，熒光光譜成像，光電流光譜成像

u 獨特的激光掃描技術，具有優異的掃描分辨率和重復性

 激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復性< 0.1 μm

u 體相全息光柵光譜機

 光透過率>90%，比反射式光柵高30%，信號傳輸效率更高

u 具有Raman/PL/光電流等多種測量模式

u 結構緊湊，模塊化設計

u 掃描速度快，掃描范圍大

200µm x 200µm范圍內高速成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

拉曼光譜成像，PL，熒光光譜成像，光電流光譜成像，拉曼 mapping，PL mapping，photocurrent mapping，光電流mapping，熒光mapping

產品參數：

上表是XperRam Compact與某知名公司拉曼光譜機參數對比

應用實例：

u 光電流成像，大（重）樣品測試

掃描成像，載物臺無需移動，故而可以放置很重的樣品在載物臺上，下圖是測量帶製冷器的碳納米管的光電流成像，普通拉曼成像系統無法完成此項測試

u 拉曼成像（二硫化鉬） 

圖（a）樣品臺上放置的帶製冷器的碳納米管的顯微圖像

圖（b）碳納米管的光電流mapping圖樣，

設置為激光掃描區域180um x180µm，步2µm

可任意設置激光掃描范圍和掃描步進，激光掃描范圍在40倍物鏡下最大可達200µm x 200µm，激光掃描步進可低至0.1µm

圖(c)二硫化鉬樣品的顯微圖像

圖(d)二硫化鉬的強度mapping成像，設置為激光掃描區域50um x50µm，激光掃描步進 0.3µm

圖(e)二硫化鉬的強度mapping成像，設置為激光掃描區域30um x30µm，激光掃描步進 0.1µm

圖(f)二硫化鉬的頻率mapping成像，設置為激光掃描區域30um x30µm，激光掃描步進 0.1µm

圖（g）單層與多層二硫化鉬薄膜拉曼成像與拉曼峰頻移

u 熒光PL成像：

驚爆價！40萬RMB！大麵積共聚焦拉曼成像系統

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新手教學

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