廠傢供應-離線Low-E玻璃生產線

離線真空濺射法 　　

離線法生產Low-E玻璃，是目前國際上普遍采用真空磁控濺射鍍膜技術。和高溫熱解沉積法不同，濺射法是離線的。且據玻璃傳輸位置的不同有水平及垂直之分。 　　

濺射法工藝生產"Low-E"玻璃，需一層純銀薄膜作為功能膜。純銀膜在二層金屬氧化物膜之間。金屬氧化物膜對純銀膜提供保護，且作為膜層之間的中間層增加顏色的純度及光透射度。 　　

垂直式生產工藝中，玻璃垂直放置在架子上，送入10-1帕數量級的真空環境中，通入適量的工藝氣體（惰性氣體Ar或反應氣體O2、N2），並保持真空度穩定。將靶材Ag、Si等嵌入陰極，並在與陰極垂直的水平方向置入磁場從而構成磁控靶。以磁控靶為陰極，加上直流或交流電源，在高電壓的作用下，工藝氣體發生電離，形成等離子體。其中，電子在電場和磁場的共同作用下，進行高速螺旋運動，碰撞氣體分子，產生更多的正離子和電子；正離子在電場的作用下，達到一定的能量後撞擊陰極靶材，被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜。為瞭形成均勻一致的膜層，陰極靶靠近玻璃表麵來回移動。為瞭取得多層膜，必須使用多個陰極，每一個陰極均是在玻璃表麵來回移動，形成一定的膜厚。 　　

水平法在很大程度上是和垂直法相似的。主要區別在玻璃的放置，玻璃由水平排列的輪子傳輸，通過陰極，玻璃通過一系列銷定閥門之後，真空度也隨之變化。當玻璃到達主要濺射室時，鍍膜壓力達到，金屬陰極靶固定，玻璃移動。在玻璃通過陰極過程中，膜層形成。

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