產品品牌：穎和

設備類型：全自動

適用領域：半導體行業、太陽能行業

適用于(用途)：清洗

槽數：多槽

硅片清洗設備特點手動硅片清洗設備特點：
可根據不同的清洗工藝配置各種相應的清洗功能槽。
功能槽包括：加熱酸缸、HF腐蝕、BHF（HF恒溫緩沖腐蝕）、超聲清洗槽、恒溫水浴、QDR（快排沖水）、電爐等。
清洗功能槽模塊化，各部分有獨立的控制單元，可隨意組合。
關鍵件采用進口部件，提高設備的可靠性及使用壽命。
采用進口耐腐蝕PP板材，防酸、防腐，有效避免酸液的侵蝕。
控制系統的元器件具備防腐、防潮功能，確保安全的工作環境。
結構緊湊，凈化占地面積小，造型美觀、實用。
操作符合人機工程原理，具有良好的操作界面，使用方便、靈活。
閉式清洗，有效改善工作環境，保障操作人員安全。