本設備為濕法分散、研磨工藝設備，尤其在超微粉材料的制造及應用上效果甚優。可為以下行業提供濕法分散、研磨工藝解決方案
1)印刷油墨
2)噴墨打印油墨
7)制藥
8)造紙材料（重質碳酸鈣濕法加工）
9)光纖材料
10)陶瓷材料(氧化鋁、氧化鋯、氧化矽等）
11)金屬塗膏（導電性材料），包括:絕緣塗膏、用於電容器生產的塗膏、印制電路板（PCB)
以及使用於要求環保的各類納米材料的超細粉碎研磨公益項目上。
設備特點
1)無污染：本設備研磨腔所有配置單元——研磨缸、分散盤、襯套、壓蓋、前後蓋封板、出料篩圈等全部為釔穩定氧化鋯（YZr）或者碳化矽（Sisic）組成，可根據客戶的需求選用不同材料的配置，高耐磨、無污染，特別是無金屬污染。
2)高效：采用特殊結構的研磨分散器結構，配置極小的研磨微珠（最 小可以為0.1mm），高效的研磨系數，使得產品達納米的細度（最高達50納米）。
3)顆粒分佈范圍窄：特殊的研磨原理以及出料結構，可保證物料顆粒分佈均勻，D50顆粒在90%以上。
4)損耗小：采用全封閉結構以及高效的冷卻系統，在研磨溶劑介質物料時損耗非常小。
新手教學
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