產品型號：UB－6200半導體晶體集成電路檢測用顯微鏡

類型：金相顯微鏡

工業顯微鏡廣泛應用于半導體,電子工業進行晶體,集成電路的檢驗和科學研究.配備有反射照明,成象和觀察系統,偏光裝置.     Industrial  microscope  is  widely  used  for  crystal,  integrated  circuit  (IC)  examination and  research.  It  is  supplied  with  reflected  illumination,  imaging  and  viewing  system,  polarized  imaging  system.規格  Specifications  ◇  無限遠光學系統,管鏡焦距200mm    Infinitive  Optical  System,  Tube  Lens  Focal  Length  200mm◇  鉸鏈式三目鏡筒,30°傾斜,  瞳距55-75mm    Compensation  Free  Trinocular  Tube,  Inclined  at  30°,  Interpupillary  Distance  55-75mm◇  高眼點,大視場目鏡WF10X/22    High  Point  and  Wide  Field  Eyepiece  WF10/22◇  長工作距離,平場復消色差物鏡2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42     Long  Working  Distance,  Plan  Apo  Objectives  2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42◇  五孔物鏡轉換器     Quintuple  Nosepiece◇  6″雙層活動平臺和圓平臺     6″Double  Layers  Mechanical  Stage  and  circle  stage◇  同軸粗微調焦機構,微動格值0.002mm    Coaxial  Coarse  &  Fin  Focus  Adjustment  System,   Fine  Division  0.002mm◇照明系統  Illumination  System冷光源光纖反射照明器:12V150WCold  Light  Fiber  Reflected  Illnminator:  12V150W