安捷倫臺式HP 4500
ICP-MS，該系統被廣泛應用於半導體行業。因為半導體行業對檢出限要求非常高，通常要求ppt級的檢出限，這也就需要機器具備非常高的靈敏度，同時
ICP-MS質譜機的同時多元素分析能力也大大滿足瞭半導體行業的需求。
在半導體行業中，最大的分析難點即為痕量K、Ca、Na、
Mg、Fe的分析，由於ICP-MS固有的質譜乾擾很難獲得上述痕量元素的準確分析結果。HP
4500首次引入瞭冷等離子體的感念，由於有效的冷等離子需要等離子體電勢顯著降低，以防止接口區域的二次放電導致的多原子電離乾擾，安捷倫科技創新的屏
蔽炬技術能夠有效解決上述難題，實現瞭半導體行業ppt量級的K、Ca、Na、Mg、Fe元素的準確分析，該技術也成為半導體行業痕量分析上述元素的標準
技術。
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