典型應用

微光學

半導體光刻

TYPICAL APPLICATIONS
Micro-Optics
Semiconductor  lithography
Development  mask  work

  威思曼高壓電源HTEM高壓電源主要用于精密電子束應用如半導體納米光刻，微光學。它的超低紋波和優秀穩定性使其非常適合使用于這些苛刻的應用。固體封裝的高電壓部分消除任何用戶的維修問題，全數字化控制，過壓、過流、拉弧保護。

輸入電壓：
單相220VAC，±10％，50/60HZ
輸出電壓：0-100KV，負極性。 EXTER應受開關可選
到105kV，±500伏特
輸出電流：
0 -10μA，低范圍
0-100μA，高范圍
開關可選
線性調整率：指定的輸入額定電壓的±0.001％，電壓范圍
負載調整率：≤20V為25μA至60μA的電流變化和60μA至25μA
紋波：
≤75mV峰峰值
局部高壓放電：大于200mV以下
穩定性：0.001％，每8小時后，6小時的戰爭m，最高，為溫度為20°C±0.2 °C，
溫度系數：
每攝氏度50ppm，超過10°C至40°C范圍內
環境：
工作溫度：0到40攝氏度
存儲溫度：-40至85攝氏度
濕度：10％到90％RH，非冷凝
冷卻方式：
強制通風控制機箱;
對流冷卻高壓機箱