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等離子刻蝕，是乾法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成瞭等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表麵驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表麵。
等離子表麵處理設備可應用於所有的基材，甚至復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化、等離子體清洗，等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。
等離子表麵處理設備應用：
等離子體清除浮渣、光阻材料剝離、表麵處理、各向異性和各向同性失效分析應用、材料改性、包裝清洗、鈍化層蝕刻、聚亞酰胺蝕刻、增強粘接力、生物醫學應用、聚合反應、混合物清洗、預結合清洗。
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