等離子刻蝕機

等離子刻蝕，是乾法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成瞭等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表麵驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表麵。

  等離子體處理可應用於所有的基材，甚至復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化、等離子體清洗，等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。

在等離子刻蝕過程中，通過處理氣體的作用，被刻蝕物會變成氣相（例如在使用氟氣對矽刻蝕時，下圖）。處理氣體和基體物質被真空泵抽出，表麵連續被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來（例如半導體行業用鉻做覆蓋材料）。

等離子方法也用於刻蝕塑料表麵，通過氧氣可以灰化填充混合物，同時得到分佈分析情況。刻蝕方法在塑料印刷和粘合時作為預處理手段是十分重要的，如POM、PPS和PTFE。等離子處理可以大大地增加粘合潤濕麵積。