光催化高能離子除臭機，是一個組合體。即光觸媒技術和高能離子的結合。
      光觸媒[Photocatalyst]是光[Photo=Light]+觸媒（催化劑）[catalyst]的合成詞。光觸媒是一種以納米級二氧化鈦TiO2為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱，是當前國際上治理室內環境污染的最理想材料。 光觸媒在光的照射下，其表麵會釋放出活性極強的空穴/電子對，並使之和空氣中的有機物及各種細菌發生降解反應，從而達到凈化空氣、抗菌防黴、房間除臭等功能。TiO2本身近於天然物質，無毒無害，其本身不參與反應，隻是提供反應的場所與條件，因此具有永久性，被認為是當前治理室內空氣污染的理想材料。    氧化鈦所產生的氫氧自由基會先行破壞有機氣體分子的能量鍵，使有機氣體成為單一的氣體分子，加快有機物質、氣體的分解，將空氣中的甲醛、苯等各種有機物、氮氧化物、硫氧化物以及氨等氧化，還原成為無害物質。它可將人體臭、動物臭及煙味去除，凈化空氣。光觸媒氧化鈦在接觸光時，能發揮消臭、抗菌、防污等優良性能。“光觸媒”——  即將引發一場光凈化革命的新型材料   光觸媒的反應機理  當納米級二氧化鈦超微粒子接受波長為388nm以下的紫外線照射時，其內部由於吸收光能而激發產生電子·空穴對，即光生載流子,然後迅速遷移到其表麵並激活被吸附的氧和水分，產生活性自由氫氧基(·OH)和活性氧(·O)，當污染物以及細菌吸附其表麵時，就會發生鏈式降解反應
  是光催化機和高能離子除臭機的一個組合。合理的光催化高能離子除臭機除臭效果可以和生物除臭相媲美。同時有占用空間小，維護簡單的優點。光催化是用大功率的uv紫外線燈管配合納米級的金屬氧化物（專用的催化劑一般使用納米級銳鈦級二氧化鈦塗料，配合二氧化鋯。氧化鋁等組合成為光催化塗料）
       光催化離子法，離子去除惡臭氣體原理等離子體是由電子、離子、自由基和中性粒子組成的中性導電性流體，在空氣凈化過程中常常由氣體放電產生。等離子反應器中放電電療表麵、器壁表麵及塗層置放的催化劑都有可能對等離子體化學反應起催化作用,等離子體激發和催化劑活化聯合作用。低溫等離子體光催化系統裡，去除污染物過程既有等離子體化學反應過程又有光催化反應過程，兩者之間也可能存在協同作用。在等離子產生過程中，待處理的污染物受高能電子轟擊可以直接被分解成單質或轉化為無害物質。另外，高能電子的轟擊使污染物電離、離解、激發，產生瞭大量等離子體。等離子體中的離子、電子、激發態原子、分子及自由基都是極活潑的反應性物種，使通常條件下難以進行或速度很慢的反應變得十分快速，它們再進一步與污染物分子、離子反應，從而使污染物得到降解，尤其有利於難降解污染物的處理。另外，由於活性離子和自由基氣體放電時一些高能激發粒子向下躍遷能產生紫外光線，當光子或電子的能量大於半導體禁帶寬度時，就會激發半導體內的電子從價帶躍遷至導帶，形成具有很強活性的電子空穴對，並進一步誘導一系列氧化還原反應的進行。經過紫外線光催化後生空穴具有很強的獲得電子能力，可與催化劑表麵吸附的OH-和H2O發生反應生成羥基自由基，從而進一步氧化污染物。由於等離子體放電光催化過程有大量等離子體、強活性電子沖擊、紫外線輻射等綜合因素的協同作用，因而可以更快速有效地分解空氣中惡臭物質和滅菌除臭。
  光催化載體一般使用表麵積大的，蜂窩板。作為載體。要求反應時間短，接觸麵積大。
  高能離子機是利用介子電暈技術產生的正負離子群。要求發生量，每立方厘米離子大於200萬個離子。
  高能離子和光催化組合一般要求配比功率為1比10。即100w高能離子配合1000w的光催化板。
  很多用戶一直糾結於，一套機器可以處理多少臭氣的誤區。要想光催化高能離子處理臭氣的效果，達到生物除臭的效果，要根據臭氣的濃度來配合機器的多少。舉例說明，如果一個2000風量的污水泵房用一組光催化高能離子可以處理瞭的話，即1000w的光催化機器，和100w的離子機器。如果同樣的2000風量用於垃圾濾液的處理肯定遠遠不夠的，原因是垃圾濾液的臭氣濃度比泵房高瞭幾十倍。所以要用的機器要多的多。
  很多做離子機器的，誤導客戶一套機器可以處理幾千甚至1萬風量。是不對的。這樣往往造成客戶認為離子機器不如生物的效果好。實際上這使用瞭應該使用機器的幾十分之一的用量，當然達不到處理效果瞭。
  在這方麵嘉善奧氧廠生產的高能離子機器發生量是國內高能離子機器中發生量最高的。但是也隻能處理泵房1千風量左右。如果要一個好的效果，一定配合光催化模塊。一般配合比為一套高能離子機器，配合1-2套，光催化模塊，才能達到一個完全的處理效。

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