精密平麵研磨拋光機KS55B
用途:主要用於光學玻璃、晶體、石英晶片、藍寶石玻璃、鈮酸鋰、砷化鎵、陶瓷、片鐵氧體、矽片、閥板、閥片、摩擦片、剛性密封圈、氣缸活塞環、油泵葉片等金屬及非金屬硬脆材料的雙平麵研磨及拋光。
設備原理:
1.本研磨機為單麵精密研磨拋光設備,被磨、拋工件放於下研磨盤上,上下研磨盤相對或同向轉動,工件由中心齒輪轉動載體使工件自轉或公轉,通過氣缸對上磨盤施壓,工件與研磨盤作相對運動均勻磨擦,來達到對工件的研磨拋光目的。
設備特點:
1、采用日本“SMC”氣動元件,分段精密加壓控制,適合粗磨、中磨、精磨、拋光 等工藝
2、采用觸摸屏人機界麵,瑞士“ABB”、PLC程序控制系統,確保機床的穩定性及安全性,系統兼容光柵厚度控制系統,分辨率達0.001,加工後的產品厚度公差可控制在± 0.002mm范圍內,平麵度公差可控制在± 0.001mm 范圍內。
3、采用日本“NSK”主軸軸系,確保機床的精密性及耐用性。
4、上盤快升、快降、緩升、緩降集中於一個手柄,操作更方便。
5、獨特的安全鎖緊機構,防止意外斷氣、斷電而“掉盤”傷人的意外發生。
6、獨特的上盤自動浮動定位裝置,減少瞭錯盤、對盤的麻煩。
7、齒圈及擋水盤半自動升降系統,即方便取放工件及咬合齒輪,又滿足改變遊輪咬合高低位置的要求
8、整機的運行采用獨立電機拖動,使上盤、下盤、中心輪、速度達到最佳配比,遊輪實現正轉、反轉,滿足修盤工藝需求。
技術參數:
磨盤尺寸(mm): ¢1355*¢458*50
最大加工尺寸(mm): ¢410mm
磨盤轉速(r.p.m): 0-50r.p.m
遊星輪參數及數量: Z=147/DP12 6個
總功率(kw/380v): 15KW
研磨厚度(mm): ≦30/≧0.5
氣壓(MPA): 0.5-0.6
設備重量(kg): 5600kg
外形尺寸(w*d*h): 2350*1700*3000
主磨盤端麵跳動(mm): ≤0.15mm
加工工件精度:
最佳加工平麵度: 0.001mm(Φ25mm軸承鋼)
最佳加工粗糙度Ra: 0.02um(Φ25mm軸承鋼)
最佳加工平行度: 0.001mm(Φ25mm軸承鋼)
備註:由於技術不斷更新,以上數據僅供參考,最終以實體數據為準!
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