品名:鉻靶(Cr Target)
規格:各種尺寸加工定制(可倒斜角),
純度:>99.95%;
表麵:拋光、磨光;
用途:主要用於STN、tft、Ai、TP等磁控濺射鍍膜;也用於制不銹鋼,汽車零件,工具,磁帶和錄象帶。
我公司鉻靶生產工藝為熱等靜壓,含氧量較熔煉鉻靶更低,所鍍出來的鉻色更白。
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品名:鉻靶(Cr Target)
規格:各種尺寸加工定制(可倒斜角),
純度:>99.95%;
表麵:拋光、磨光;
用途:主要用於STN、tft、Ai、TP等磁控濺射鍍膜;也用於制不銹鋼,汽車零件,工具,磁帶和錄象帶。
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