矽是一種重要的濺射靶原材料，主要用在反應磁控濺射法鍍制SiO2 以及SiN 等介質層，作為重要的功能薄膜材料，它們具有良好的硬度，光學，介電性質及耐磨，抗蝕等特性，在光學，微電子等領域有著廣泛的應用前景，是目前國際上廣泛關註的功能材料。目前主要用於LCD透明導電玻璃，建築LOW-E 玻璃以及微電子產業。

矽靶一般可以分為單晶和多晶兩種類型。

     我司采用直拉晶體生長技術制造單晶，多晶靶材，晶粒均勻，直徑可以達到11英寸，可以加工成長方形，圓形等各種形狀，還可以根據用戶圖紙加工特殊尺寸要求的靶材。

產品規格：

材料純度：>99.999%

生長方法:直拉（CZ）

晶向：P or N

金屬雜質含量：（Al/Fe/Ca/Mg/Cu/Co/Ni/Cr/Mn/Ti/Na/K//P/W/Mo/Zn/Sn）：<2ppm

內外徑*長度：客戶定制

厚度：客戶定制

平整度（TIR）:<1.2μm                                              

局部平整度（STIR）:<0.3μm

翹曲度（Warp）:<30μm

新手教學

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