鍍膜設備 

 按設備種類分類——整機系統

批量鍍膜系統  真空鎖鍍膜系統      內聯機系統       客戶定制度膜系統   退膜系統

批量鍍膜系統是為滿足大規模高質量鍍膜生產要求，保證鍍膜性能及其穩定性方麵而設計和配置的。該系統具有以下配置：
 • 有各種尺寸的腔室可供使用（請參閱批量鍍膜系統系列）
 • 為ta-C鍍膜配置瞭FCVA專利的鍍膜源
 • 配備瞭線性離子清洗源

 •集抽氣,傳輸,離子清洗,FCVA沉積,排氣裝置於一體的全自動系統
 • 能存儲必要的生產記錄的數據庫
 • 安全性高,可以確保操作者的安全

NTI的多源鍍膜系統（ BFS1005 ）將過濾陰極真空電弧（ FCVA ）鍍膜技術，磁控濺射以及離子束預清洗/蝕刻技術緊密的結合起來,使用戶根據其不同的鍍膜應用的建立起它們自己的生產模式。

 BFS1005配備瞭可靠的高效率真空系統，能加偏壓，樣品支架可旋轉.適用於各個生產應用領域。
    此外， BFS1005還提供友好的用戶界麵控制系統，以便操作者能夠通過圖形觸摸屏目監視系統狀態。一旦載入一套工藝參數,用戶僅僅需要點擊“開始”按鈕便可以自動實施鍍膜工藝。

   濺射工藝被廣泛應用於生產和研發。NTI在生產工藝,系統的設計和制造上都有專業的技術支持.此外,通過使用特有的高壓/高頻直流脈沖,NTI的磁控濺射系統可為用戶在清洗基體，以及基體上加偏壓等方麵提供行之有效的解決辦法，以便生產出比普通濺射工藝質量更加優異的薄膜。

    BA0505T系統配備有可直接冷卻的陰極電弧源，離子束預清洗/蝕刻源以及PID控制的加熱器。並且樣品支架在旋轉和加偏壓方麵都經過瞭特殊的設計。
   它能夠使不同的鍍膜應用領域的用戶建立起它們自己的生產模式. 此外,BA0505T還提供瞭友好的控制系統，以便操作者能夠通過圖形觸摸屏監視系統狀態。
   再加上由壓力計控制的準確的氣壓，使得生產過程中的氣壓漂移可以被完全避免。因此， BA0505T可以提供有著優良的可重復性的高質量膜層。

   “Jumbo”系統（BFS1205）是我們專門為大批量生產而設計的鍍膜系統。這個系統中主要用到瞭過濾陰極真空電弧鍍膜技術（FCVA）、磁控濺射技術以及鍍膜前的離子束清洗技術。通過這些技術，用戶就可以根據不同的鍍膜應用來采取不同的工藝方法。BFS1205 系統擁有一套可靠且高效的真空環境，以及可加偏壓的樣品旋轉支架，所以對於不同的應用領域及要求，此系統都可以很好的投入大規模生產。另外BFS1205也配有一個可以隨時觀測系統狀況的觸摸屏，隻要把工藝參數載入系統中，用戶隻需按下開始(START)按鈕系統就會自動開始鍍膜工藝。

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納峰公司的真空鎖系列鍍膜系統是為瞭鍍ta-C薄膜而設計的, ta-C薄膜的膜厚和性質都能受到精確的控制.這種機器已經達到瞭生產玻璃鏡片鑲嵌膜的工業標準，它所生產膜層能夠延長玻璃鏡片模具的壽命，並且解決鏡片在生產過程過所存在的黏料問題。因此，所有主要數位相機制造商都把真空鎖系列鍍膜系列鍍膜系統引入生產以提高生產效率和降低玻璃鏡片的生產成本.

為滿足嚴格的要求，機器配備瞭以下配置：

    •可以防止鍍膜環境受到污染的雙腔系統,
    •集抽氣,傳輸,離子清洗,FCVA沉積,排氣裝置於一體的全自動系統
    •能存儲必要的生產記錄的數據庫
    •安全性高，可以確保操作者的安全

    •為瞭保證無塵的室內環境

核心產品&工業標準                    

 鍍膜類型：

 • ta-C

 •氧化物

 •氮化物

 •矽（僅限磁控濺射）

 應用領域

 •鏡麵模具

 • CD模具/CD

膜層類型：

　• 金屬

　• 氧化物

　• 氮化物

　• 矽（僅限濺射）

應用領域：

　• 鏡麵模具

　• 精密元件

　• 磁控鍍膜系統

　 • 其它模具

 鍍膜類型：

• ta-C
• 金屬/合金
• 氧化物
• 氮化物
• ICP（感應耦合等離子體）

 應用領域:

• 鏡麵模具
• CD 模具/ CD

• DVD模具/ DVD
• 玻璃鏡片模具 
• 其它模具

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客戶定制的大規模生產，以滿足您的批量要求： 
  我們瞭解在鍍膜生產中既要保證高產又要保證經濟的運營成本的需要.這對於NTI不是問題。無論對大麵積平板基體的金屬或陶瓷鍍膜，還是在裝有很多細小零部件的大麵積夾具進行鍍膜工藝，納峰均可以提供符合各種要求的內聯機鍍膜系統。

鍍膜源的選擇：

  具有包括立式和臥式兩種串列式傳輸裝置，包括一至兩個真空鎖平臺，以便被鍍工件能夠從真空環境中進入和輸出。陰極可被設計為平麵或柱狀。電源可選擇直流或射頻兩種。鍍膜過程中，靶材材料將以單一組分或在經過陰極時進行反應並以反應後組分形式，鍍於工件表麵。

立式和臥式串列式鍍膜系統：

具有立式內聯傳輸裝置的鍍膜系統，是避免鍍膜工藝中雜質顆粒污染的首選。

臥式內聯系統是為大型平板工件而設計的，通常配備有易做維護的無滾輪傳動輪系統，並可以按照需要安裝樣品支架傳送臺。系統的高度及寬度可根據用戶要求進行設計調整，從而滿足個別濺射源對於特殊靶材高度的要求。 

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        在納峰，我們意識到瞭能夠根據各戶需要所定制的鍍膜系統對廣大用戶的重要意義。因此，納峰得真空的團隊——從科學傢、設計員到機械和電力工程師，都在制造定制的鍍膜系統方麵受到瞭嚴格而良好的培訓，而且他們在這方麵都很有經驗。我們大多數銷售給高校，研究所或者工廠的系統都是定制的，這樣才能滿足廣大客戶的不同要求。

        納峰為客戶提供多種選擇，用戶可以定制系統的外形，真空室的尺寸，還可以選擇各種各樣的鍍膜源和離子清洗源，真空泵，固定裝置和軟件。

定制系統的可選項

A— 真空泵系統：

旋片泵  渦輪分子泵  羅茨泵  其它 

B— 真空鍍膜源：

過濾陰極真空弧FCVA  磁控濺射  直接電弧  粒子束  熱蒸發 

C— 磁控濺射電源：

直流  射頻  脈沖

D— 真空室：

批量生產系統  真空鎖系統  內聯機系統  前、側、頂部裝載設計  裝載量考量

E— 可選配件：

膜厚測量 基體加熱  MFC工藝氣體流量控制  樣品支架偏壓

相關鍍膜系統

納峰公司為客戶的生產或科研提供提供以下鍍膜系統

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具有雙電療結構的(RIE)退膜系統:

•樣品放置於內置水冷樣品支架上，工作等離子體可由射頻或直流電源激發，頂部氣體噴淋板設計確保給氣均勻通過樣品表麵。

•此外，對於特殊一些特殊工藝，可將射頻或直流電源至於頂部氣體噴淋板處，從而產生反應等離子體，使表麵處理/蝕刻在樣品表麵緩和進行。

該特殊設計可以保證等離子體在樣品表麵傳輸的均勻性，從而確保褪膜的均勻性。

 氣體噴淋板的特殊設計可以保證在樣品表麵氣體傳輸的均勻性.從而確保褪膜均勻。褪膜系統系列

   采用兩級旋轉葉輪泵或乾式泵進行抽氣處理，並配備可升級路徑以便添加渦輪分子泵。

 系統控制由PLC完成，並配以觸摸屏麵板PC，從而警醒工藝監控，以及自動完成和監控抽放氣，內鎖等條目.此外,系統還含有報警裝置。

新手教學

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