使用范圍:
對半導體制造裝置發熱部的冷卻:
單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發熱部分的冷卻:
激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產業用機器發熱部分的冷卻:
等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發熱部分的冷卻:
電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發熱部分原子吸光光度計的光源等。
產品概述
l節省水資源,可以使用水兌乙二醇混合液進行循環制冷,節約資源;嚴密的循環管路設計,防止循環水污染,延長循環水的使用時間;
l高性能循環泵,可保證每天連續24小時運行;
lPID溫控技術,內置PT100傳感器航空插件,保證瞭溫度控制的精確性;
l成熟的無氟制冷技術;
l具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能;
技術指標:
型號 | 溫度范圍 | 循環泵 | 電源 | (kw) at (℃) 制冷量 | 加註冷媒 | 整機尺寸 | ||||
℃ | L/min | bar | 0 | -10 | -20 | |||||
LX-0250 | -15~30 | 20 | 0.7 | 220 50/60HZ | 1.5 | 1 | 0.55 | R407C | 550*600*900 | |
LX-0400 | -25~30 | 20 | 0.7 | 2.4 | 1.5 | 0.8 | 550*600*900 | |||
LX-0700 | -25~30 | 35 | 1 | 4 | 2.7 | 1.5 | 620*680*1050 | |||
LX-1000 | -25~30 | 35 | 1 | 380V 50/60HZ | 7.5 | 6.3 | 3.5 | 750*750*1200 | ||
LX-1450 | -25~30 | 50 | 1 | 10 | 8 | 5 | 650*680*1600 | |||
LX-2000 | -25~30 | 75 | 1.5 | 15.5 | 12 | 7.3 | 750*750*1750 | |||
LX-3500 | -25~30 | 110 | 1.5 | 28 | 21 | 12.3 | 950*1700*1700 | |||
LX-5000 | -25~30 | 110 | 1.5 | 41 | 30 | 17.4 | 1250*2500*1900 | |||
LX-8000 | -25~30 | 150 | 2 | 71 | 48 | 28 | 1400*3200*1900 |
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