| 品名：金 | 牌號：xmzl | 產地：中國 |
| 含量≥：99.99（%） | 雜質含量：0..01（%） | 金靶材：磁控濺射材料 |
品名：金靶（Au Target）
純度：99.9%、99.99%、99.995%、99.999%
分子量：196.9665
密度：19.32 g/cm3
熔點：1062℃
制作工藝：真空磁懸浮熔煉，澆鑄成錠，熱機械處理和精密機械加工
適用機器：各類型號磁控濺射設備等
產品用途：用於STN、tft、Ai、TP等磁控濺射鍍膜，工業級鍍膜，實驗或研究級別用金靶材，電子，光電，軍用，裝飾，功能薄膜等
產品優點：質量可靠，價格優惠，還原法制備，純度高，雜質少，軋制致密，氧化少，成型可塑，相對致密度高，晶粒均勻等軸，一致性高
高純度,高質量.
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