加工定制:是 | 品牌:ZT | 型號:2500 |
用途:玻璃表麵鍍陽光控制膜復合膜 | 裝機容量:約200KW | 塗裝速度:0.5-4M可調 |
ng>應用范圍ng>
主要用於在大平板玻璃上鍍制金屬單層質膜、合金膜或金屬化合物膜,經鍍膜的玻璃具有遮陽、保溫、節能和裝飾作用。
ng>結構特點ng>
1、采用新型的平麵和柱狀磁控濺射射靶技術,提高鍍膜效果和效率。
2、配備高精度的磁控電源、氣體流量和速度控制,自動化程度高,操作簡便,性能穩定。
3、膜層均勻性好、附著力強、硬度高、抗腐蝕性好,可鍍多種顏色的膜系。
4、真空室有傳統的立式設計和高效的臥式設計,滿足不同層次客戶的需要。
低輻射玻璃(Low-E)是在優質浮法玻璃原片上采用真空磁控濺射方法鍍制一層納米級的金屬銀層而成。可以使玻璃的輻射率從0.84降低至0.1,甚至更低,輻射熱損減少90%,從而達到節能、環保的目的。
低輻射鍍膜玻璃能反射遠紅外熱能,與普通鍍膜產品相比能允許高可見光透過,低室外反射。合成中空後,擁有所有玻璃種類中最低的U值,既能保持室內通透明亮,又能保證冬暖夏涼。
本生產線既可以生產遮陽型低輻射玻璃,又可以生產高透型低輻射玻璃,也可以生產熱反射隔熱鍍膜玻璃,滿足不同地區的不同需要;還可以生產多種不同顏色(交涉膜,又稱彩色膜)的鍍膜玻璃、自潔玻璃,設備可按客戶要求訂造,滿足不同客戶的需求。
磁控濺射鍍膜生產線主要技術參數 |
型號 性能 | JTB-L2500 | JP-2500 | JP-J2500 | JT-2200 | JP-D2500 | 基片尺寸 | 2.5×1.65 | 2.5×1.83 | 2.5×1.83 | 2.5×1.65 | 2.44×1.83 | 產量(萬米2/年 | 20~30 | 60~80 | | 5~8 | | 極限壓力 | 2×10-3 | 2×10-3 | 2×10-3 | | 2×10-3 | 抽氣時間(空載從大氣抽至2×10-2Pa)(min) | ≤ 20 | | | ≤ 20 | | 濺射功率 | 30kW×2 | 80kW×3 | 100kW×2 | 30(雙移動靶) | 100kW×2 | 加熱功率 | 20 | | | 20 | | 離化功率 | 3 | | | | | 基片移動速度 | 0.5~2 可調 | 0.5~4可調 | 0.5~4可調 | | 0.5~4 可調 | 平均功率 | 105 | 210 | | 80 | | 名義總功率 | 170 | 450 | 260 | 98 | 280 | 占地麵積 | 15×6 | 42×8 | 10×11 | 8×6 | 25×11 |
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磁控濺射鍍膜生產線主要技術參數 |
型號 性能 | JTB-L2500 | JP-2500 | JP-J2500 | JT-2200 | JP-D2500 | 基片尺寸 | 2.5×1.65 | 2.5×1.83 | 2.5×1.83 | 2.5×1.65 | 2.44×1.83 | 產量(萬米2/年 | 20~30 | 60~80 | | 5~8 | | 極限壓力 | 2×10-3 | 2×10-3 | 2×10-3 | | 2×10-3 | 抽氣時間(空載從大氣抽至2×10-2Pa)(min) | ≤ 20 | | | ≤ 20 | | 濺射功率 | 30kW×2 | 80kW×3 | 100kW×2 | 30(雙移動靶) | 100kW×2 | 加熱功率 | 20 | | | 20 | | 離化功率 | 3 | | | | | 基片移動速度 | 0.5~2 可調 | 0.5~4可調 | 0.5~4可調 | | 0.5~4 可調 | 平均功率 | 105 | 210 | | 80 | | 名義總功率 | 170 | 450 | 260 | 98 | 280 | 占地麵積 | 15×6 | 42×8 | 10×11 | 8×6 | 25×11 |
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