激光刻膜機
該刻膜機采用YAG燈泵激光器，可靈活調制激光波長至1064與532，適合於對導電玻璃與鍍層進行精細刻線。同時日本進口伺服電機、鬥式工作臺設計，加配氣缸固定加緊裝置，能有效的解決玻璃運行中的平穩性。主要用於非晶矽薄膜太陽電池的透明導電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶矽膜系（a-Si、μc-Si）、背電療膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜等
G5刻膜機
該系列機型采用半導體端面泵浦纖耦合全固態激光器，性能指標包括脈沖的穩定性、脈寬、峰值功率等參數均達到世界先進水平。全自動的控制系統使得它自動進出料、自動識別自動跟蹤、自動校正和自動定位。它主要運用在非晶矽薄膜太陽電池的透明導電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶矽膜系（a-Si、μc-Si）、背電療膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）等領域。
技術參數:
型號規格：SEF-G5
有效加工幅面：1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）
最大運行速度：2000mm/s
重復定位精度：±10μm
刻線直線度：±10μm / 1000 mm
典型刻膜線寬：30～60μm
三線外沿總寬度：300～500μm
選項和配件：
高標配，可根據需要移除不需要的部件。
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