| 產品執行標準 | DIN50987,ISO3497,ASTMB568 | 
| 測試原理 | EDXRF能量色散X熒光光譜法 | 
| 測量樣品 | 固體、液體、粉末 | 
| 功能 | 單鍍層和多鍍層測厚與元素分析 | 
| 最多可分析6層(不包括基層) | |
| 鍍液成份分析 | |
| 高壓發生器 | |
| 輸入電壓 | 24VDC±10% | 
| 輸出電壓 | 0-50kV | 
| 輸出電流 | 0-2.0mA | 
| 輸出精度 | 0.01% | 
| X射線管 | |
| X射線管靶材 | W靶、Rh、Mo、Ag、Cr靶材可選 | 
| X射線管窗口 | Be窗 | 
| 電氣參數 | 50W, 4-50kV,0-1000uA | 
| 冷卻方式 | 油冷卻 | 
| X射線照射方向 | 從上往下↓ | 
| 照射范圍 | Φ0.1mm | 
| 使用壽命 | 15000-20000h | 
| 探測器 | |
| 探測器類型 | 矽-PIN半導體探測器 | 
| 元素分析范圍 | Al13-U92 | 
| 能量分辨率 | FWHM<145eV | 
| 探測窗口 | 鈹窗,窗口面積:25mm2 | 
| 冷卻方式 | 熱電制冷 | 
| 鍍層測厚與元素分析指標 | |
| 元素分析范圍 | Al13-U92 | 
| 測厚范圍 | 0.005—35 um | 
| 第一層精密度/準確度 | 相對標準差5%以下(厚度大於0.5um時) | 
| 第二層精密度/準確度 | 相對標準差10%以下(厚度大於0.5um時) | 
| 測量時間 | 10-60s | 
| 譜處理系統 | |
| 處理器類型 | 全數字化32-bit DSP | 
| 譜通道數 | 256,512,1024,2048可供選擇 | 
| 計數率 | 大於100000cps | 
| 能量范圍 | 500eV-40960eV | 
| 死時間 | <3% | 
| 光路系統和樣品觀測 | |
| 準直器系統 | 單一固定準直器Φ0.1mm | 
| 對焦系統 | 鐳射激光對焦 | 
| 樣品觀察系統 | 300萬像素高清CCD攝像頭,20倍光學變焦 | 
| 樣品室 | |
| 樣品室內部空間 | (寬×高×深):455×60×430mm | 
| 樣品臺尺寸 | (寬×深):250×275mm | 
| 樣品臺承載重量 | ≤5kg | 
| 試驗樣品最大尺寸 | 寬×高×深:440×50×410mm | 
| 樣品臺控制方式 | 三維程控電動樣品臺 | 
| 工作臺移動技術數據 | X=200±5、Y=200±5、Z=80±5mm | 
| 工作臺移動精度 | 0.005mm | 
| 計算機和軟件 | |
| 控制計算機 | 聯想品牌機,2G內存,500G 硬碟驅動 | 
| 顯示器 | 聯想19寸LCD顯示器 | 
| 操作系統 | WindowsXP | 
| 報告結果 | Word、Excel格式 | 
| 軟件 | 鍍層測厚軟件、元素分析軟件 | 
| 軟件類型 | FP基本參數法軟件 | 
| 軟件語言 | 簡體中文、繁體中文、英文、其它 | 
| 譜顯示 | 自動峰定性,KLM標記,譜重迭比較 | 
| 譜處理 | 總強度,凈強度,背景強度;全面積,凈面積,多元素擬合,高斯擬合 | 
| 資料分析 | 基本參數,基本譜圖,無標樣測試,峰位修正,底材修正。 | 
| 重量和尺寸 | |
| 設備主體尺寸 | 寬×高×深:W 503×H635×D790mm | 
| 主體重量 | 約80kg | 
| 使用環境 | |
| 工作環境 | 溫度15-25℃,濕度40-70%RH | 
| 電源系統 | 單相220V±10%,6A.工作電壓在允許范圍內 | 
| 其它 | 1.不要靠近產生強磁場,電場,高頻等裝置;2.減少振動3. 粉塵少,濕度低,無腐蝕性氣體;4. 日光不能直射;5. 作為地震的對策,要考慮裝置的固定。 | 
 
 
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