分辨率
高真空模式(二次電子)
低真空(背散射電子) |
1.0nm (30kV),1.5nm (15kV),2.0nm(3kV),3.5nm(1kV)
- | 工作真空
高真空模式
低真空模式
槍體真空 | <9×10-3Pa
-
<3×10-7Pa | | 電子光學工作模式 | 分辨率/景深/視野/大視野/搖擺電子束 | | 放大倍率 | 3×-1,000,000×連續可調 | | 加速電壓 | 500V至30kV | | 電子槍 | 高亮度肖特基發射源 | | 探針電流 | 2pA至100nA | | 掃描速度 | 從200ns/pixel至10ms/pixel,可逐步或連續可調 | | 聚焦窗口 | 大小和位置連續可調 | | 掃描特性 | 動態聚集、點和線掃描、傾斜校正、3D Beam | 圖象尺寸
| 可達8192×8192像素，可單獨調整為動態圖像（4種）和存檔的圖像（10種），圖像比例可選1:1、4:3或2:1 | | 顯微鏡控制 | 能過計算機（鍵盤、鼠標、軌跡球）操作Mira TC軟件，所以顯微鏡的功能均可在WindowsTM平臺下實現。 | | 自動程序 | 獨有的實時電子束追蹤(In-Flight Beam TracingTM)技術可持續調節探針電流和束斑直徑，真空控制，電子槍合軸，掃描模式對中，加速電壓改變的補償，最優化束斑大小和探針電流，最優化放大倍率和束斑大小，掃描速度，高度和對比度，聚焦和消像散，Look Up Table | | 遠程控制 | TCP/IP |
| | 樣品室 | | 內部尺寸 | 300mm寬×330mm深 | | 門寬 | 280mm寬×310mm高 | | 接口數量 | 9個以上 | | 樣品室減震方式 | 氣墊減震或選配內置主動式減震 |
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| | 樣品載臺 | | 類型 | 全電腦化優中心 |
移動范圍 | 全馬達驅動控制方式:
X=130mm－－馬達控制
Y=130mm－－馬達控制
Z=100mm－－馬達控制
旋轉:360°連續可調－－馬達控制
傾斜:-20°到+80°－－馬達控制 | | 樣品高度 | 最大143mm |
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| | 軟件 | | 測量軟件 | | 圖象操作 | | 圖象處理 | | 3緯掃描 | | 硬度 | | 多圖校正 | | 目標面積 | | 打印放大倍率 | | 關機定時器 | | 公差 | | | | 形態學 | | 顆粒度分析 | | 自動抓圖 | | 圖象觀測 | | 電子束寫入 | | 鼠標連接 |
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| | ●標配 ○選配 |
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