仟凈公司廠傢直銷太陽能光伏行業用超純水設備、高純水設備、去離子水設備、倍爾凈品牌
半導體原材料清洗用純水設備、超純水設備、簡介
半導體清洗超純水設備水質標準：
半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出瞭更加嚴格的要求。
半導體清洗超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(最新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)
半導體清洗超純水設備應用場合：
☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於藥液配制
☆ 集成電路生產中高純水清洗矽片
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質顯像管、螢光粉生產
☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
☆實驗室和中試車間
☆汽車、傢電表面拋光處理
☆光電產品、其他高科技精微產品
仟凈公司是一傢集研發、生產、制造、銷售、服務於一體的一般納稅人生產型企業，長期致力於反滲透純水處理設備、半導體清洗去離子水設備、全自動軟水器、超純水設備、去離子水設備、中水回用設備及生活污水設備，積累瞭豐富的設備生產、施工經驗，泉特公司提供項目策劃、咨詢服務、規劃設計、制造安裝、維修保養等全方位的服務。倍爾凈系列半導體清洗去離子水設備 半導體產品在生產工藝中，對水的純潔度要求非常高，一般要求15兆歐以上。針對高純度水質的要求去離子水設備達到相關行業標準的水質（15-18.2 MΩ.CM），倍爾凈去離子水設備盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在工藝上，倍爾凈系列半導體清洗去離子水設備取市政自來水為源水，通過預處理、RO反滲透、EDI電除鹽系統、核級交換混床系統等處理工藝的有機結合，末端用水水質可以使產水電阻值達到18.2 MΩ.CM。 半導體清洗去離子水設備典型工藝： 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18.2MΩ.CM） 預處理－一級反滲透－加藥設備（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18.2MΩ.CM） RO、 EDI、樹脂離子交換是當今制備純水的必選工藝設備。其中RO反滲透是當今一項最實用的膜分離技術，是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質進行分離的過程。可有效地去除水中的重金屬離子、鹽類、細菌等，去除率達到98%以上； EDI連續電除鹽設備ConRinuous ElecRro deionizaRion（電解式連續去離子）為模塊式設備，可根據需要任意組合，該系統不需要停設備再生，無需酸堿，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環保要求。EDI裝置現已應用在半導體、電廠、電子、制藥、實驗室等領域制備高純水。MB核級拋光樹脂一般用於超純水處理系統末端，來保證系統出水水質能夠維持用水標準，一般出水水質都能達到18兆歐以上，以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。可將水的電阻值由16MΩ/cm提升至18.2MΩ/cm。
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