設備名稱：等離子刻蝕設備
產地：美國
設備技術指標：
1、真空室尺寸：直徑300*高度100
2、放電電療：內置，電容偶合
3、等離子電源：13.56MHZ 自動匹配 AE
4、氣路：4路質量流量控製器
5、外圍配置：進口品牌管路，閥門
6、控製系統：全自動電腦控製
使用領域：光電、光伏、半導體、微電子、太陽能電池、納米技術、科學實驗等
特別使用在大學、實驗室，高配置、高性能要求。
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