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電子半導體行業水質標準：

 我公司電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準，我國電子工業部電級水質技術標準(18MΩ.cm、15 MΩ、10MΩ、2MΩ、0.5MΩ.cm),我國電子工業部高純水質試行標準，美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

電子工業對水質的要求：

微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成密度越高，對水質的要求也越高。這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出瞭嚴格的要求。

 應用領域：

·半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
·超純材料和超純化學試劑；
·實驗室和中試車間
·汽車、傢電表面拋光處理；
·其他高科技精微產品。

工藝流程：

1、預處理－反滲透－水箱－陽床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對象

2、預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

3、預處理－二級反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

4、預處理－二級反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（最新工藝）

水質標準：

(符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)

產品圖片：

1、預處理系統

預處理系統主要由Φ250機械過濾器、Φ250活性碳過濾器、Φ250軟化器及及保安過濾器組成。系統運行總出力0.5m³/h以上，要求源水溫度在25±3℃。

機械過濾器能除去大部份懸浮物、膠體和顆粒狀機械雜質，使出水得到初步凈化；機械過濾器的正常濾水能力為0.5m³/h，其濾速為16m/h。機械過濾器的運行方式為自動控制。

由於原水為地表自來水，水中餘氯及有機物的含量可能較高，而低壓復合反滲透膜對餘氯及有機物有嚴格的限制，其值必須≤0.1mg/l，所以在予處理中設置活性碳過濾器去除原水中的餘氯及有機物，有效保證反滲透裝置長期、平穩、安全、可靠地運行。活性碳過濾器的正常濾水能力為0.5m³/h，其濾速16m/h。活性碳過濾器的運行方式為自動控制。

由於源水中鈣、鎂離子的含量較高，而單級反滲透的脫鹽率高達97％，因此其濃水側因高度濃縮，將產生碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鎂等沉淀。沉淀附著在反滲透膜表面，會堵塞膜元件的通道，造成壓差上升、水通量下降以及脫鹽率的下降，影響反滲透的正常運行和使用壽命，所以在保安過濾器前設置軟化器裝置進行保護，以防止反滲透濃水側的結垢。有效保證反滲透裝置長期、平穩、安全、可靠地運行。

2、反滲透系統

反滲透系統由一級高壓泵、反滲透裝置、化學清洗裝置組成。

反滲透裝置能去除99%以上的鹽份及100%的有機物、細菌、病毒物。反滲透運行過程中，膜表面有一定量的沉積物，系統設置主機開、停機自動沖洗反滲透裝置，以保證反滲透裝置的穩定運行。本系統的反滲透膜為美國海德能公司的ESPA2-4040膜元件和南方高壓泵。

高壓泵是RO裝置的動力源。為使RO裝置處於良好看運行狀況下，高壓泵進出口壓力開關；當高壓泵進口壓力低於限定值（缺水P≤0.05MPa）或高壓泵出口壓力高於限定值（P≥1.8 MPa）時，則壓力開關送訊號至PLC程控系統並報警，高壓泵及RO系統自動停止運行，以防止誤操作引起出水背壓過高而對RO膜造成損壞。

RO系統運行制水、壓力控制、自動清洗均由PLC微電腦控制。RO系統每隔一定周期可自動定時對RO膜元件進行低壓表面沖洗，將RO膜元件內尚存的濃水沖洗掉，防止濃水沉積引起RO膜表面結垢。

本工程反滲透系統出力為0.25m³/h；一級反滲透系統脫鹽率大於99.0%；反滲透系統水回收率大於70%。

3、精脫鹽後處理系統

淡水箱的反滲透除鹽水水質仍達不到高純水用水標準，還需進行進一步脫鹽處理。反滲透除鹽水由純水增壓泵加壓，經過紫外線殺菌後送入精制離子交換器深度脫鹽處理。精制離子交換器產水穩定電阻率達5兆歐以上，通過交換反應能徹底除去水中的殘餘離子，出水電阻率≥5兆歐，產品水完全符合並超過中國藥典規定的純化水指標，最後送去高純水用水系統。

新手教學

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