磁控濺射靶材 (可為電子與半導體,平面顯示行業,建筑與汽車玻璃行業,薄膜太陽能電池行業,磁存儲行業,工具行業,裝飾行業提供高品質靶材) 高純單質金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶Al,鉻靶Cr,銅靶Cu,鎳靶Ni,硅靶Si,鍺靶Ge,鈮靶Nb,鈦鈀Ti,銦靶In,銀靶Ag,錫靶Sn,石墨靶C,鉭靶Ta,鉬靶Mo,金靶Au,鉿靶Hf,錳靶Mn,鋯靶Zr,鎂靶Mg,鋅靶Zn,鉛靶Pb,銥靶Ir,釔靶Y,鈰靶Ce,鑭靶La,鐿靶Yb,釓靶Gd,鉑靶Pt等高純單質金屬濺射靶材。 高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3,氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3,氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS,硫化鉬靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2,二硼化鈦靶TiB2,二硼化鋯靶ZrB2,三氧化鎢靶WO3,三氧化二鋁靶Al2O3,五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN,氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化鈦靶TiN,碳化硅靶SiC,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材. 備注:CNM生產的陶瓷靶材采用世界最先進的陶瓷生產工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術,相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。 高純合金濺射靶材:鎳釩合金靶Ni-V,鎳鉻合金靶Ni-Cr,鈦鋁合金靶Ti-Al,硅鋁合金靶Si-Al,銅銦合金靶Cu-In,銅鎵合金靶Cu-Ga,銅銦鎵合金靶Cu-In –Ga,銅銦鎵硒靶Cu-In –Ga-Se,不銹鋼靶,鋅鋁合金靶Zn-Al,鎢鈦 W-Ti,鐵鈷 Fe-Co,白銅靶等高純合金濺射靶材。 備注:CNM生產的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。 |