原理:
E光技術是光能和射頻能量的完美組合,核心技術主要有三點:射頻+光能+表皮冷卻系統.利用皮膚對光能的選擇性吸收引起靶組織和正常皮膚的阻抗差異,在光能強度較低的情況下強化靶組織對射頻能量的吸收,極大的消除瞭光能過強的熱作用可能引起的副反應,並且提高瞭顧客的舒適度,傳統IPL設備治療深度隻達皮下4mm,依靠E光技術,可達皮下15mm,使治療范圍大幅度提高.
利用最新的納米濾波技術篩選出特定波長的光,穿透人體正常組織到達靶位、靶組織對它吸收的系數大於周圍組織的吸收,由於靶組織升溫速度明顯,能直接將高溫以破壞和擊碎的形式作用於患處,同時周圍的其它組織的加熱、散熱受到控制,因此保持活性
特點:
1時間短:一次治療隻需要20-30分鐘。 3 無痛:無需麻醉,治療中僅有輕微灼熱感。 功效: 永久脫毛、祛斑、祛紅血絲、祛痘、美白、提升、緊膚 射頻:一種放射性頻率的高頻電磁波利用皮膚形成的阻抗來產生能量;使細胞分子產生強烈的共振旋轉(百萬次/秒的數量級)產生熱能,使皮膚底層的溫度瞬間升高,作用深度可達皮膚以下15 mm。 光能:E光是經過納米濾波技術,濾除對人體有害成份的光譜,使用430nm-1800nm的大范圍治療光譜,定能量定流量的釋放強脈沖光,輸出的光平穩、均衡、持久熱累計時間長。其中較短的波長用於治療血管性病變和色素性病變,而較長的波長可能實現嫩膚功能。 表皮冷卻系統:采用國內最先進的半導體制冷技術,表皮接觸式制冷,有效避免瞭光能和射頻能量的熱作用對皮膚的損傷,並且增加瞭表皮的阻抗使治療過程更加安全、舒適。 技術參數: 輸入電壓:AC220V 功率:1000W 屏尺寸:8寸觸屏 光譜:480-1200NM 530-1200NM 640-1200NM 體積:115*40*50CM
2無創:對肌膚組織沒有任何創傷。
4無需後續護理:不 需要特別的術後護理,術後隻要註意防曬就可以
5無副作用:治療後無物理性或化學性不良反應。
6 效果穩定:相當於其它方法十倍以上的效果。
7安全性高:E光療膚是一個十分溫和的、無創的過程溫和的、無創的過程,對皮膚沒有任何損傷,不需麻醉,無不適感。


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