工藝概述：
平麵研磨和拋光是利用自由散粒磨料在工件被加工麵及磨盤基麵上相對運動，使工件表麵變得非常高的平整度和光潔度，工件固定不需要強夾、真空、磁鐵，隻需自然地放置在磨盤上，基本上能適合加工任何金屬和非金屬材料的工件，沒有瞭強製性的裝夾及一般磨床的剛性磨削，減少的瞭沖擊及發熱產生的次生變形，更有利於高精度和高光潔度的加工。
加工效果：
尺寸：公差±0.02mm，平行度0.2um，平麵度0.002mm
外觀：鏡麵高光效果
研磨基理：
磨粒作用在有凹凸和裂紋的表麵上，一部分磨粒由於研磨壓力的作用，嵌入研磨盤表麵，用露出的尖端刻劃表麵進行切削加工。另一部分磨粒則在工件與研磨盤之間發生滾動，產生滾軋效果，在給磨粒加壓時，就在硬脆材料加工表麵的拉伸力最大部位產生微裂紋。當縱橫交錯的裂紋擴展產生脆性崩碎形成磨屑，達到表麵去除的目的。
拋光基理：
以磨粒的微小塑性切屑為主體，借助磨粒和拋光器與工件流動摩擦使工件表麵的凹凸變平，同時研磨液對工件有化學性溶析作用，而工件和磨粒之間受局部高壓作用有直接的化學反應，有助於拋光進行。
新手教學
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