隨著光化學反應的深入研究，高壓密閉型光化學反應機就越來越被廣大客戶所青睞，本裝置主要由多種光源裝置、不銹鋼反應容器、PTFE內套、耐壓石英玻璃、濾光片、磁力攪拌裝置、反應保護暗箱、耐壓充氣管路、恒溫循環裝置等部分組成。設計主要針對光化學、光催化、光降解、有機化學等方向，適合氣相、氣液相反應，也可以用於固液相、氣固相反應，可以實現氣體和物料的充分反應，最高耐壓2.0MPA，也可以定做更高壓力反應裝置，搭配氣相色譜機等關聯設備可實時的在線檢測，該系統具有技術合理、結構簡單、操作便捷、運行穩定、保護人體、自由組合、靈活改動等獨特優勢。（本廠獨傢資料未授權國內任何廠傢使用，描述一致者均為剽竊，請尊重知識產權）
配置清單
產品名稱 | 高氣密性耐高壓型光化學反應機 | |||
規格型號 | HPPR-A150ML | HPPR-A300ML | HPPR-A500ML | HPPR-A1000ML |
光源類型 | 氙燈/汞燈 | 氙燈/汞燈 | 氙燈/汞燈 | 氙燈/汞燈 |
光源特質（可選） | 直接調光強度 | 直接調光強度 | 直接調光強度 | 直接調光強度 |
光源功率 | 500W | 500W | 1000W | 1500W |
光源壽命 | 1000H | 1000H | 1000H | 1000H |
照射特點 | 點光源 | 點光源 | 點光源 | 點光源 |
照射直徑 | 80MM | 80MM | 80MM | 100MM |
散熱系統 | 3級強力散熱器 | 3級強力散熱器 | 3級強力散熱器 | 3級強力散熱器 |
耐壓光照視窗 | 內含 | 內含 | 內含 | 內含 |
磁力攪拌裝置 | 一臺 | 一臺 | 一臺 | 一臺 |
升降臺 | 一臺 | 一臺 | 一臺 | 一臺 |
反應容器主材質 | 不銹鋼316L/純鈦/哈氏合金材質 | 不銹鋼316L/純鈦/哈氏合金材質 | 不銹鋼316L/純鈦/哈氏合金材質 | 不銹鋼316L/純鈦/哈氏合金材質 |
單層式耐腐蝕PTFE內層容量 | 150ML | 300ML | 500ML | 1000ML |
夾套式耐腐蝕PTFE內層容量（可選） | 150ML | 300ML | 500ML | 1000ML |
壓力設計（可選） | 2KG/5KG/10KG/20KG | 2KG/5KG/10KG/20KG | 2KG/5KG/10KG/20KG | 2KG/5KG/10KG/20KG |
進氣口類型（可選） | 通用型、專用高壓型 | 通用型、專用高壓型 | 通用型、專用高壓型 | 通用型、專用高壓型 |
暗箱尺寸 | 350*350*900mm | 350*350*900mm | 350*350*900mm | 350*350*900mm |
可選組件
組件名稱 | 規格 |
高低溫恒溫循環裝置 | 最低負120度至最高300度 （該范圍為我廠極限溫度范圍，需根據客戶工藝要求確定實際范圍） |
超壓釋氣保護裝置 | 壓力值可以隨意設定，反應壓力達到設定值後自動釋氣，可多次使用 |
泰勒標準篩子 | 80目、160目、250目等，直徑50MM，60MM等 |
RS485控製軟件 | 控溫參數遠程設定、曲線記錄、打印 |
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