WH-220負性光刻膠
WH-220是中、大規模集成電路及其他半導體器件生產用負性光刻膠,由幻環化聚異戊二烯、光敏劑、溶劑及添加劑調配、純化、精密過濾而成。
推薦工藝條件(以30mpa.s為例)
① 塗佈:23℃,旋塗,膜厚0.8-1.2μm
② 前烘:熱板110℃×90sec,烘箱110℃×20min
③ 曝光:30-40mj/cm2
④ 顯影:23℃,WH-2277,1min,浸漬;500rpm×10sec,噴淋
⑤ 漂洗:23℃,WH-2202,1min,浸漬;500rpm×10sec,噴淋
⑥ 後烘:熱板140℃×3min,烘箱140℃×30min
⑦ 剝離:80℃,WH-2304
塗佈曲線
物化性能
① 外觀淡黃色透明粘稠液體
② 閃電(℃):25
③ 沸點(℃):138.4
④ 飽和蒸汽壓(kPa):1.16/25℃
⑤ 密度(g/cm3):0.869-0.910
⑥ 爆炸極限(V%):1.1-7.0
⑦ 燃燒分解產物:一氧化碳、二氧化碳、氮氧化物、水
新手教學
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