| 又稱霍爾槽,赫爾槽,HULL CELL是一種對電鍍溶液既簡單又實用的試驗槽，系為 R.O.Hull 先生在 1939 年所發明的。有 267 CC、534 CC 及 1000 CC 三種型式，但以 267 最為常用。可用以式驗各種鍍液，在各種電流密度下所呈現的鍍層情形，以找出實際操作最佳的電流密度，屬於一種"經驗性"的試驗。通常的做法是將表麵故意皺折的陽極，放在圖中的第 2 邊(故意皺折是使其表麵積與麵對的陰極片相等)，將陰極放在第 4 邊，至於所用之電流密度及時間則隨各種鍍液而不定，須不斷試做以找出標準條件。鍍後可將陰極片的下緣，對準"哈氏標尺"上某一所用電流密度處，即可看出陰極片上最佳區域所對應的實際電流密度。哈氏槽還有另一用途，是將陽極放在第 1 邊而將陰極放在第3 邊，亦可看出陰極片上最左側低電流區的鍍層情形。 |
| 267ml,帶加熱, |
| 8個打氣攪拌孔,孔的直徑是1-2mm，孔與孔之間的距離是10mm。 |
| 在電鍍過程裡由外觀來說，提高均一電著性將可得到更 |
| 平整的鍍膜，得以提升產品的美觀及附加價值。就提高生產 |
| 管理而言，將節省許多的經費，並擴大產量。 |
| 用於測定鍍金液的均一電著性， 陰極板置於兩端可移動陽極板置於中間任何定點，以測定陽 極到兩陰極的電流分配之比較金屬析出量之比。 |
新手教學
批發市場僅提供代購諮詢服務，商品內容為廠商自行維護，若有發現不實、不合適或不正確內容，再請告知我們，查實即會請廠商修改或立即下架，謝謝。
