商品代碼:414937

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    金屬蝕刻技術資料-金屬半導體-選擇性金屬蝕刻-斜角蝕刻-蝕金屬半導體-金屬蝕刻類資料(268元/全套)選購時請記住本套資料(光盤)售價:268元;資料(光盤)編號:F165499
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    《金屬蝕刻資料》包括專利技術全文資料104份。
    0001)刻蝕頂端非摻雜本征層非對稱金屬膜垂直腔面發射激光器

    0011)金屬蝕刻裝飾板及其制造方法
    0012)蝕刻金屬層的組合物以及使用其形成金屬圖案的方法
    0013)鈍化金屬蝕刻結構
    0014)用于金屬柵極集成的柵極堆疊及柵極堆疊蝕刻順序
    0015)金屬電蝕刻機
    0016)金屬光蝕刻制品及該制品的制造方法
    0017)適用于形成集成電路互連和器件的金屬(*)氨性蝕刻裝置中加速蝕刻及沉積金屬的方法
    0019)金屬立體蝕刻防護模板空心技術
    0020)用于減少金屬線刻蝕后腐蝕的敷金屬層刻蝕技術
    0021)金屬蝕刻畫的制造方法
    0022)金屬蝕刻版畫
    0023)金屬導線的蝕刻方法
    0024)消除金屬導電層的靜電使蝕刻完全的方法
    0025)具有連續接觸蝕刻停止層的金屬氧化物半導體元件
    0026)金屬薄膜干蝕刻的后處理方法及蝕刻與去光阻的整合系統
    0027)水晶玻璃鑲嵌金屬蝕刻畫
    0028)使用干式刻蝕工藝以有效率地圖案化凸塊下金屬化層的技術
    0029)鈦、鋁金屬層疊膜蝕刻液組合物
    0030)鈦、鋁金屬層疊膜蝕刻液組合物
    0031)一種用于金屬層蝕刻的輪廓控制方法
    0032)便攜式金屬蝕刻機
    0033)使用金屬鋁回收及再利用廢棄含氨堿性銅蝕刻劑的方法
    0034)一種金屬蝕刻影像地圖
    0035)蝕刻金屬氧化物半導體柵極構造的氮氧化方法
    0036)蝕刻高精度金屬送紙滾輪
    0037)金屬板的電解蝕刻裝置
    0060)金屬刻蝕缺陷偵測裝置及其偵測方法
    0070)絕緣基材金屬化的方法,其中粗糙化和蝕刻過程由量測光澤而加以控制
    0071)金屬電漿蝕刻后的晶圓清洗方法
    0072)一種金屬電容的刻蝕方法
    0073)使用于雙鑲嵌蝕刻方法的雙層金屬硬屏蔽
    0074)金屬蝕刻地圖
    0075)一種自對準難溶金屬硅化合物阻擋層的刻蝕方法
    0076)金屬蝕刻版畫
    0077)活性能量射線粘合力消失型壓敏粘合劑、涂布其的活性能量射線粘合力消失型粘合片和蝕刻化金屬體的制造方法
    0078)用于亞微米金屬刻蝕的低壓功率Cl2/HCl工藝
    0079)金屬蝕刻工藝畫
    0080)基于近紅外分光計控制金屬層蝕刻過程及再生用于金屬層蝕刻過程的腐蝕劑的方法
    0081)可減少金屬蝕刻殘留物的形成導電結構層的方法
    0082)蝕刻成型的金屬箔畫板
    0083)金屬選擇性蝕刻液
    0084)一種半導體金屬電容的結構及其刻蝕方法
    0085)金屬披覆板的電漿蝕刻進度監測結構
    0086)鋁類金屬膜及鉬類金屬膜的層疊膜用蝕刻液
    0087)采用高頻變壓器的金屬電刻蝕印字機
    0088)刻蝕頂端非摻雜本征層非對稱金屬膜垂直腔面發射激光器
    0089)氯化鐵刻蝕或酸洗廢液中鎳與重金屬離子的去除方法
    0090)用于蝕刻銅表面的溶液和在銅表面上沉積金屬的方法
    0091)半導體金屬蝕刻工藝的方法
    0092)無污染金屬刻蝕方法及其裝置
    0093)一種金屬蝕刻地圖的設計制作工藝
    0094)濺射蝕刻金屬層所用窗口保護器
    0095)用于切割非晶態金屬形狀的選擇性蝕刻工藝以及通過該工藝而制成的元件
    0096)金屬蝕刻板條裝飾門
    0097)使用無抗蝕劑電子束光刻制造亞微米抗蝕金屬/半導體結構
    0098)用選擇性金屬蝕刻提高聲共振器的性能
    0099)改善蝕刻中止層與金屬層間的粘著性的工藝與結構
    0100)金屬氧化物/光致抗蝕膜積層體的干蝕刻方法
    0101)光化學蝕刻制做金屬照片技術
    0102)一種金屬配線的多步干法刻蝕方法
    0103)帶金屬蝕刻板的工藝瓷(漆)盤
    0104)半導體基板的金屬線再蝕刻方法查詢更多技術請點擊:
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