產品型號：HMDS-6090 HMDS預處理系統
產品特點：
1、機外殼采用醫用級不銹鋼316L材質制造，內膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分佈在內膽外壁四周，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體一目瞭然。
2、箱門閉合松緊能調節，整體成型的矽橡膠門封圈，確保箱內高真空度。
3、微電腦智能控溫機，具有設定，測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。
4、智能化觸摸屏控制系統配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時間。
5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6、整個系統采用優質材料制造，無發塵材料，適用100級光刻間凈化環境。
產品技術參數：
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2400W
控溫范圍：室溫+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：±0.5℃
達到真空度：133Pa
容積：90L
工作室尺寸（mm）：450*450*450
載物托架：2塊
時間單位：分鐘
真空泵：國內最好品牌，上海“慕鴻”型號：DM-4，旋片式油泵。
HMDS預處理系統的必要性：
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，塗膠質量直接影響到光刻的質量，塗膠工藝也顯得尤為重要。光刻塗膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而矽片表麵的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和矽片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和矽片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二矽氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS塗到矽片表麵後，經烘箱加溫可反應生成以矽氧烷為主體的化合物。它成功地將矽片表麵由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
HMDS-6000系列預處理系統的原理：
HMDS-6000預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在矽片、基片表麵均勻塗佈一層HMDS，降低瞭HMDS處理後的矽片接觸角，降低瞭光刻膠的用量，提高光刻膠與矽片的黏附性。
HMDS-6000系列預處理系統的一般工作流程：
首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為：打開真空泵抽真空，待腔內真牢度達到某一高真空度後，開始充人氮氣，充到達到某低真空度後，冉次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數後，開始保持一段時間，使矽片充分受熱，減少矽片表麵的水分。然後再次開始抽真空，充入HMDS氣體，在到達設定時間後，停止充入HMDS藥液，進入保持階段，使矽片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間後，再次開始抽真空。充入氮氣，完成整個作業過程。HMDS與矽片反應機理如圖：首先加熱到100℃-200℃，去除矽片表麵的水分，然後HMDS與表麵的OH一反應，在矽片表而生成矽醚，消除氫鍵作，從而使極性表麵變成非極性表麵。整個反應持續到空間位阻(三甲基矽烷基較大)阻止其進一步反應。
尾氣排放等：多餘的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。
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