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    [8168-0056-0001] 包括連接橫向rf mos器件的源區與背側的插頭的類網狀柵結構
    [摘要] 揭示了一種用于rf mos晶體管的類網狀柵結構(80),它具有導電插頭源-體-背側連接。此連接結構使用導電插頭(82)來連接該器件的源區和體區與背側(96)。與在已有技術的rf mos器件中使用長的饋送柵極路徑相比,具有類網狀柵結構的rf mos晶體管利用的饋送柵極路徑明顯較短。具有類網狀柵結構的rf mos晶體管可利用多晶硅柵極或硅化柵極(86),這導致簡化了制造工藝和/或提高了高頻時的性能。
    [8168-0082-0002] 鐵電電容器與半導體器件
    [摘要] 這里揭示了由上電極、鐵電薄膜和下電極構成的鐵電電容器和具有鐵電電容器的電子器件,特征在于所述鐵電薄膜為鈣鈦礦型的含pb氧化物,而上電極和下電極含有pt和pb的金屬間化合物。本發明是為解決下述問題而設計的。在常規非易失性鐵電存儲器中,在pzt與電極的界面附近產生退化層。在電極與鐵電薄膜界面處產生應力。退化層和界面應力使鐵電電容器的初始極化特性變壞,并且在多次開關循環后極化特性會嚴重退降。
    [8168-0065-0003] 散熱器
    一種散熱器,在散熱基板的單面上至少按1列設置多個舌狀散熱片,各舌狀散熱片的前端形成為圓弧狀,僅圓弧狀前端部分整體內的中央部分向前方彎曲來形成卷曲部分,中央部分以外的兩側端部不彎曲而保存原來的弧狀部分。
    [8168-0115-0004] 有機半導體圖像傳感器
    [摘要] 公布了由有機半導體構成的,具有單色或多種顏色響應的圖像傳感器。圖像傳感器由圖像傳感元件(像素)構成,其中圖像傳感元件(像素)個個都包含夾在導電電極之間的一個(或多個)有機半導體薄層。這些圖像傳感器可以與電子或光學器件集成或混成在同一或不同襯底上。來自圖像傳感器的由輸入圖像引起的電輸出信號,由與電極相連接的電路探測。通過材料選擇,通過器件厚度調整和/或通過光學過濾等方法,可以將圖像傳感元件的光譜響應修正或調節到希望的光譜區域。公布了實現紅,綠和藍全色探測的幾種方法。類似的方法可應用于在希望的響應范圍和其他希望的光譜范圍內的多波段探測(波長復用技術)。
    [8168-0185-0005] 處延雙極器件和互補金屬氧化物半導體器件的方法
    [摘要] 一種形成bimcos集成電路的方法,該方法包括以步驟:(a)在襯底的第一區形成雙極器件的第一部分;(b)在所說第一區上形成第一保護層,保護所說雙極器件的所說第一部分;(c)在所說襯底的第二區上形成場效應晶體管;(d)在所說襯底的所說第二區上形成第二保護層,以保護所說場效應晶體管器件;(e)去掉所說第一保護層;(f)在所說襯底的所說第一區上形成所說雙極器件的第二部分;(g)去掉所說第二保護層。
    [8168-0028-0006] 場致發光顯示裝置和電子裝置
    [摘要] 本發明披露了一種el顯示裝置,其中紅藍綠中每種顏色的顏色純度是不同的,所述el顯示裝置用于顯示所需平衡的紅藍綠色圖像。被提供給每個el元件的視頻信號由校正電路進行γ校正,按照校正的視頻信號的電壓和電流合適地控制藍光,綠光和紅光的顏色純度。
    [8168-0034-0007] 集成電路的封裝體基座構造及制造方法
    [摘要] 一種集成電路的封裝體基座構造及制造方法;其主要結構是在一一體成形的封裝體基座中預先埋入金屬接腳;而在其制造過程中所使用的鋼模以金屬接腳的接點處為分模線,使下模內有對應于金屬接腳形狀的*槽,該*槽的深度小于或等于金屬接腳的厚度;在*成形后金屬接腳被包裹在整個塑料體內,且其內部接點都會露出塑料體表面。上述方法制成的封裝體基座,其中金屬接腳被包裹在其塑料體內一體*成形,該制造方法簡便快速,可降低制造成本,且該金屬接腳的結合較為穩固耐用。
    [8168-0041-0008] 離子注入裝置和使用該裝置的離子注入方法
    [摘要] 本發明提供的離子注入裝置包括:腔室;以及壓力控制器,用于在離子注入工藝期間保持腔室的內部壓力不低于1e-4乇。
    [8168-0083-0009] 半導體裝置及其制造方法
    [摘要] 本發明的目的在于,通過在soi結構的半導體裝置中抑制經局部sti結構的隔離絕緣膜鄰接的晶體管之間發生的漏電流,來得到提高了隔離特性和耐壓的半導體裝置及其制造方法。其解決方法是,在由半導體襯底1、埋入氧化膜2和半導體層3構成的soi結構的半導體襯底1與埋入氧化膜2相接的表面上形成雜質層12。
    [8168-0180-0010] 形成半導體器件的方法
    [摘要] 將襯底(155)放入電鍍槽(19,59)中,測量槽(19,59)中的電流,將膜(110)鍍到半導體器件襯底(155)上。在一個實施例中,用位于槽(19,59)內的檢測陣列(57)測量電流,用測量結果控制電鍍沉積參數。在另一個實施例中,用檢測陣列(57)測量電流,用也位于電鍍槽(19,59)內的相應的控制陣列(53)控制電鍍膜(110)(110)的特性。
    [8168-0158-0011] 溝道隔離結構、具有該結構的半導體器件以及溝道隔離方法
    [8168-0064-0012] 引線架及樹脂封裝型半導體器件的制造方法
    [8168-0073-0013] 用于捕獲離子的接收裝置
    [8168-0208-0014] 超磁致伸縮材料和制造方法及其磁致伸縮致動器和傳感器
    [8168-0015-0015] 樹脂封裝的半導體器件
    [8168-0100-0016] 半導體器件
    [8168-0133-0017] 半導體器件檢查裝置
    [8168-0059-0018] 直立式發光二極管及其導電線路構造
    [8168-0193-0019] 半導體器件
    [8168-0172-0020] 特別用于表盤的具有帶色外觀的光生伏打電池
    [8168-0174-0021] 用于對半導體襯底進行處理的方法和設備
    [8168-0166-0022] 樹脂膜片成型方法和使用所述方法的樹脂膜片成型設備
    [8168-0189-0023] 納米晶巨磁阻抗復合材料及其制備方法
    [8168-0125-0024] 發光元件用基板與發光元件以及發光元件的制造方法
    [8168-0152-0025] 高效電子制冷芯片
    [8168-0184-0026] 鐵電半導體存儲器的制法
    [8168-0033-0027] 半導體器件
    [8168-0145-0028] 薄膜晶體管的輕摻雜漏極/偏置結構的制造方法
    [8168-0142-0029] 橫型異質結雙極三極管及其制造方法
    [8168-0213-0030] 半導體位置探測器
    [8168-0167-0031] 半導體器件中的列晶體管
    [8168-0179-0032] 壓電執行元件
    [8168-0141-0033] 垂直mos晶體管
    [8168-0030-0034] 場效應晶體管及其制造方法
    [8168-0150-0035] 使用各向異性導電粘接劑的半導體裝置的安裝方法
    [8168-0063-0036] 防止熔絲燒斷損傷的相鄰熔絲之間的裂縫擋板
    [8168-0053-0037] 第三族氮化物半導體器件和其生產方法
    [8168-0200-0038] 在半導體器件中形成銅配線的方法
    [8168-0146-0039] 半導體制造設備
    [8168-0016-0040] 半導體器件和用于制造該半導體器件的方法
    [8168-0197-0041] 模制樹脂以密封電子元件的方法及裝置
    [8168-0154-0042] 光電二極管
    [8168-0216-0043] 半導體封裝方法
    [8168-0039-0044] 半導體晶片的封裝方法及其所制成的產品
    [8168-0186-0045] 半導體器件及其制造方法
    [8168-0182-0046] 一種用于模擬鐵電電容的等效電路
    [8168-0123-0047] 微型電動機械結構的包封工藝
    [8168-0124-0048] 一種制備氮化鎵基 led的新方法
    [8168-0024-0049] 光致抗蝕圖形的形成方法
    [8168-0062-0050] 具有腔體的金屬絲熔絲結構
    [8168-0110-0051] 高頻模塊及其制造方法
    [8168-0013-0052] 用于場效應器件的高速復合p溝道si/sige異質結構
    [8168-0072-0053] 大面積顯示結構的密封
    [8168-0204-0054] 擴散阻擋層和帶擴散阻擋層的半導體器件
    [8168-0086-0055] 半導體器件的制造方法
    [8168-0157-0056] 電子模塊
    [8168-0212-0057] 太陽能電池組件和太陽能電池裝置
    [8168-0156-0058] 具有差分信號線平衡扭絞的集成電路
    [8168-0140-0059] 制作導電或半導電三維結構的方法和擦除該結構的方法
    [8168-0117-0060] 薄膜晶體管、液晶面板和它們的制造方法
    [8168-0202-0061] 大功率半導體模塊的散熱裝置
    [8168-0188-0062] mim電容器
    [8168-0061-0063] 電致發光顯示器件及其制造方法
    [8168-0218-0064] 半導體裝置的電容器的制造方法
    [8168-0040-0065] 促進半導體晶片釋放的方法
    [8168-0068-0066] 半導體器件的制造方法
    [8168-0048-0067] 引線框架及其電鍍方法
    [8168-0097-0068] 電光裝置
    [8168-0165-0069] 側面包括端子的表面安裝組件
    [8168-0170-0070] 具有多柵絕緣層的半導體器件及其制造方法
    [8168-0044-0071] 發光二極管及其制作方法
    [8168-0050-0072] 用于使用倒裝法的模塊的改進熱性能的可定制蓋
    [8168-0092-0073] 通過掩模橫向蔓生制作氮化鎵半導體層的方法及由此制作的氮化鎵半導體結構
    [8168-0192-0074] 用紫外激光輸出切斷導電鏈路的方法
    [8168-0107-0075] 具有內在銅離子遷移勢壘的低介電常數的介電材料
    [8168-0014-0076] 非易失性半導體存儲器及其制造方法
    [8168-0084-0077] 具有電容器保護層的半導體存儲器件及其制備方法
    [8168-0003-0078] 含有磷光體組合物的發光器件
    [8168-0026-0079] 半導體的制造方法
    [8168-0106-0080] 一種錫球生產工藝
    [8168-0136-0081] 繪制圖形校驗方法
    [8168-0096-0082] 發光半導體裝置及其制作方法
    [8168-0011-0083] el顯示裝置和用于制造所述顯示裝置的方法
    [8168-0211-0084] 碳化硅水平溝道緩沖柵極半導體器件
    [8168-0215-0085] 制作發光二極管外延晶片的方法
    [8168-0206-0086] 固態成像器件及其制造方法和固態成像系統
    [8168-0008-0087] 改進的高品質因數電容器
    [8168-0130-0088] 互補金屬氧化物半導體工藝中的線性電容器結構
    [8168-0104-0089] 半導體器件的電容器的制造方法
    [8168-0131-0090] 半導體器件
    [8168-0046-0091] 光敏器件和具有內電路系統的光敏器件
    [8168-0155-0092] 垂直型金屬氧化物半導體晶體管
    [8168-0095-0093] 微小型熱電堆元件及其形成熱隔離的方法
    [8168-0162-0094] 與硅之間具有金屬氧化物界面的半導體構造的制造方法
    [8168-0177-0095] 具有成分分級的鐵電材料的鐵電場效應晶體管及其制造方法
    [8168-0194-0096] 制造微模塊方法和制造含有微模塊的存儲媒體的方法
    [8168-0148-0097] 場效應晶體管
    [8168-0043-0098] 半導體結構及其制造方法
    [8168-0160-0099] 電子束曝光方法和所用掩膜及電子束曝光系統
    [8168-0076-0100] 光刻膠膜去除方法及其所用裝置
    [8168-0009-0101] 疊層組件的形成方法
    [8168-0210-0102] 半導體元件的封殼
    [8168-0151-0103] 投影光學系統、投影光學系統的制造方法和使用該光學系統的投影曝光裝置
    [8168-0029-0104] 電致發光顯示器及電子設備
    [8168-0207-0105] 隱埋金屬體接觸結構和制造半導體場效應晶體管器件的方法
    [8168-0163-0106] 電子束掩膜、掩膜制造方法和曝光方法
    [8168-0010-0107] 發光二極管
    [8168-0054-0108] 模版掩模及模版掩模的形成方法
    [8168-0196-0109] 用于腔室襯里的樹脂模塑制品
    [8168-0191-0110] 腐蝕后堿處理方法
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    [8168-0081-0112] 靜電感應晶體管及其制造方法和電能轉換裝置
    [8168-0198-0113] 設計方法、掩模組、集成電路及其制造方法和存儲介質
    [8168-0074-0114] 單晶膜的晶體離子切割
    [8168-0116-0115] 壓電執行元件
    [8168-0178-0116] 照明裝置
    [8168-0102-0117] 由樹脂制成應力吸收層的倒裝片型半導體器件及制造方法
    [8168-0173-0118] 去除有機物的方法
    [8168-0112-0119] 半導體裝置、安裝基板及其制造方法、電路基板和電子裝置
    [8168-0126-0120] 無光柵耦合的n型gaas/algaas多量子阱*焦平面器件
    [8168-0027-0121] 硅太陽電池的制作方法及使用該方法制作的硅太陽電池
    [8168-0199-0122] 在半導體器件中形成銅配線的方法
    [8168-0176-0123] 層疊的集成電路封裝
    [8168-0119-0124] 顯示裝置
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    [8168-0190-0126] 半導體元件的制造方法
    [8168-0070-0127] 拼接的電子顯示器結構
    [8168-0147-0128] 電致發光器件
    [8168-0047-0129] 標準單元、標準單元陣列及其布局和布線的系統與方法
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    [8168-0058-0136] 發光二極管的基板構造
    [8168-0091-0137] 低電感控制的門控晶閘管
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    [8168-0021-0140] 用于*檢測器的冷卻裝置
    [8168-0087-0141] 輻射發送和/或接收元件
    [8168-0159-0142] 帶電粒子束光刻裝置以及帶電粒子束的光刻方法
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    [8168-0036-0168] 半導體器件的制造方法及其中使用的設備
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    [8168-0060-0172] 制造半導體器件的方法
    [8168-0132-0173] 檢查半導體器件的外觀的系統及其方法
    [8168-0214-0174] *發光二極管
    [8168-0127-0175] 互補偶載場效應晶體管及其片上系統
    [8168-0085-0176] 具有至少一個電容的集成電路及其制造方法
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    [8168-0111-0183] 一種電感器件
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    [8168-0031-0185] 半導體器件及其制造方法
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