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1、形成穿透電極的方法以及具有穿透電極的基片
[技術摘要]一種形成穿透電極的方法,其中導電物質被置入一*孔中,該*孔只有一端被由導電物質形成的布線和墊片封住,而布線和墊片沒有破損。在形成穿透電極的方法中,導電物質被置入*孔中,所述*孔穿透基片且一個開口被導電薄膜封住。在支撐導電薄膜的保護*件在基片的導電薄膜側的表面上配置之后,導電物質從*孔的另一開口置入。
2、用于從基片邊緣去除副產物組的裝置和方法
[技術摘要]本發明披露了一種等離子處理系統,其包括用于處理基片的等離子室。該裝置包括*盤,其被配置為支撐該基片的第一表面。該裝置還包括抗等離子阻擋層,其以相關于該基片的第二表面空間隔開的方式進行布置,該第二表面與第一表面相對,該抗等離子阻擋層大體上防護該基片的中間部分,并使得該基片的第二表面的環形周緣區域基本上不受該抗等離子阻擋層防護。該裝置進一步包括至少一個通電電極,該通電電極與該抗等離子阻擋層配合運行以由等離子氣體產生受限的等離子,該受限的等離子基本上受限于該基片的環形周緣部分并遠離該基片的中間部分。
3、用于液晶顯示器的基片以及使用該基片的液晶顯示器
[技術摘要]本發明的一個目的是提供一種用于液晶顯示器的基片,其具有改進的光透射系數并且不降低對顏色改變的響應速度,以及使用該基片的液晶顯示器。提供形成于陣列基片上的漏極總線,該陣列基片與相對的一個相對基片相結合夾住液晶,連接到漏極總線的TFT,以及用于在驅動液晶時決定液晶的液晶分子的預傾斜角和/或傾斜方向的聚合物層形成在對齊膜或電極上。
4、在等離子體處理系統中處理不同寬度基片的可調電極組件
[技術摘要]一種用于等離子體處理系統的電極組件,包括可移除的導軌,該導軌可被調節以重新配置電極從而適應不同寬度的基片。該電極組件包括具有多個第一連接部件的電極。配合用于在電極上支撐基片的多個導軌與該電極相關聯。導軌的每一個包括多個第二連接部件。第二連接部件的每一個可拆卸地連接于第一連接部件的一個以可移除地安裝導軌和電極。
5、液晶器件基片的制備方法
[技術
6、其表面垂直方向上具有單向導電性的基片、包括這類基片的裝置和制造這類基片的方法
7、*型透鏡基片及用該基片的液晶顯示*件和液晶投影裝置
8、具有多個凸塊的基片、凸塊形成方法及將基片彼此結合的方法
9、具有硅基片和 或溶膠-凝膠衍生的負載結構的*料電池
10、用于處理玻璃基片或晶片的除灰裝置
11、有源矩陣基片、顯示裝置及制造有源矩陣基片的方法
12、帶反向MISFET基片的超導場效應晶體管及其制作方法
13、用于從基片去除*化聚合物的裝置和方法
14、薄基片支持器
*、表面聲波器件和用于它的壓電基片
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16、多區域液晶顯示器及其薄膜晶體管基片
17、顯示基片、顯示器、濾色器基片、液晶顯示器及制造方法
18、安裝有球柵陣列型電路部分的基片以及其安裝方法
19、噴墨頭基片、噴墨頭及其制造方法和噴墨頭使用方法及噴墨裝置
20、高孔率刮漿法燒結鎳基片的制造方法
21、*露信號線以及在信號線與基片之間有間隙的半導體器件
22、具有饋電布線的生物測定基片
23、安裝基片及電子*件的安裝方法
24、布線基片、半導體器件和布線基片的制造方法
25、用于液晶顯示器的基片以及使用該基片的液晶顯示器
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26、具有鑭鎵硅氧化物單晶基片的聲表面波器件
27、含集成在表面配有平線圈的基片上的電路的*型結構
28、絕緣陶瓷、多層陶瓷基片和層疊的陶瓷電子部件
29、用于密封地封閉基片中腔體的制備方法
30、靜電*盤、基片支持、夾具和電極結構及其制造方法
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31、具有饋電線的生物測定基片
32、電光器件基片、電光器件、電子器件和投影顯示設備
33、基片損傷防止系統和方法
34、帶有互連引線的電路基片及其制造工藝
35、基片承載裝置和等離子體加工設備
36、能夠獲得可靠連接的柔性基片及其連接方法
37、一種陶瓷基片電阻板的制備方法及所得的電阻板
38、發光顯示*件和往電布線基片上連接的方法、及制造方法
39、一種基片濕處理過程中化學液加熱方法及裝置
40、具有與應變半導體基片形成肖特基或肖特基類接觸的源極和 或漏極的場效應晶體管
41、有源矩陣基片和配備該基片的顯示裝置
42、聲表面波器件及其基片
43、蝕刻在玻璃基片類型的透明基片上沉積的層的方法
44、檢測裝置和DNA芯片以及其它生物催化劑基片
45、具有包括固體電解質層和氧化鋁基片的疊層的氣體傳感器
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46、用于液晶顯示器的基片以及使用該基片的液晶顯示器
47、基片載置臺用靜電吸盤及其所用的電極、以及具備它們的處理系統
48、顯示設備和柔性基片
49、用于基片加工的設備
50、電光器件基片,電光器件,電子器件和投影顯示設備
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51、透明電極的基片
52、液晶面板基片、液晶面板基片的制造方法、液晶裝置及電子設備
53、用于處理玻璃基片或晶片的電子回旋共振除灰裝置
54、從基片的處理表面上去除銅氧化物薄膜的方法
55、半導體裝置的制造方法、半導體裝置、電路基片和設備
56、用于噴墨頭的基片,噴墨頭,噴墨筆以及噴墨設備
57、顯示器和陣列基片
58、通過將兩層基片層疊在一起制造生物測定基片的方法以及生物測定基片
59、綠色基片、等離子顯示面板及等離子顯示面板的制造方法
60、檢測物質之間相互作用的裝置及帶該裝置的生物測定基片
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61、基片支架組件
62、基片的電鍍裝置和電鍍方法以及電解處理方法及其裝置
63、電子*件裝配的基片和采用該基片的壓電諧振*件
64、背面照明成像器件及其制造方法、半導體基片和成像設備
*、基片的電鍍裝置和電鍍方法以及電解處理方法及其裝置
66、基片、具有該基片的液晶顯示器及其制造方法
67、電光器件基片,電光器件,電子器件和投影顯示設備
68、檢查基片上印刷的焊糊的裝置和方法
69、陶瓷基片結晶硅薄膜太陽能電池
70、有源矩陣基片、顯示裝置及制造有源矩陣基片的方法
71、用于電池的電極基片及其制備方法
72、優化切割的石英基片上的低損耗表面聲波濾波器
73、電光器件基片,電光器件,電子器件和投影顯示設備
74、用于在諸基片之間進行連接的裝置
75、用以形成薄膜的可在基片和防鍍片之間改變距離的噴鍍設備
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76、含有至少一個采用鋁或鋁合金導電基片的雙電極的鋰電化學發電器
77、在磷化銦InP基片上形成通孔的方法及半導體光電器件
78、備有電極的透明基片
79、**有電極的透明基片
80、用于從基片上去除邊緣聚合物的裝置及方法
81、用以形成薄膜的可在基片和防鍍片之間改變距離的噴鍍設備
82、制造帶有基片上形成*件的磁頭及帶有磁頭的基片的方法
83、有源矩陣基片、顯示裝置及制造有源矩陣基片的方法
84、*性表面波裝置用的壓電基片和*性表面波裝置
*、陶瓷多層基片上的表面電極結構及其制造方法
86、液體噴射記錄基片及使用該基片的記錄頭和使用該記錄頭的記錄裝置
87、用于液晶顯示器的基片以及使用該基片的液晶顯示器
88、電光屏用基片及其制造方法和電光屏及相關電器
89、陣列基片及其制造方法和具有此陣列基片的液晶顯示面板
90、半導體晶體基片的評價方法
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91、電光器件基片,電光器件,電子器件和投影顯示設備
92、基片濕處理過程中化學液加熱方法及裝置
93、陶瓷基片非晶硅薄膜太陽能電池
94、復合基片,用它的EL面板及其制造方法
95、母片、基片*件及其制造方法
96、膠凍切割成型法生產高性能氧化鋁系陶瓷基片的生產工藝
97、單層基片表面貼裝式壓敏電阻器
98、用以形成薄膜的可在基片和防鍍片之間改變距離的噴鍍設備
99、矩陣基片、液晶裝置和顯示裝置以及它們的制造方法
100、陣列基片
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101、顯示基片、顯示器、濾色器基片、液晶顯示器及制造方法
102、用于非常大面積基片的真空處理室
103、等離子體處理設備及其基片載板
104、布線結構、利用該布線結構的薄膜晶體管基片及其制造方法
105、含硅鍺層的互補金屬氧化物半導體器件和基片及形成方法
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106、用于壓電變壓器的壓電基片支承結構以及壓電變壓器
107、基片電極**型射頻感性耦合等離子體源
108、電子發射器件,電子源基片,成*設備及其生產方法
109、用于從基片去除金屬氧化物的裝置和方法
110、基片或芯片輸入輸出接點上金屬凸塊結構及其制造方法
111、母片、基片*件及其制造方法
112、無基片高分子薄膜濕敏*件
113、液晶用電極基片
114、制作有源矩陣基片的方法
1*、生產電子源基片以及帶有該基片的圖像形成設備的方法
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