GKS-2光刻機

本機是制造中、大規模集成電路，傳感器，表麵波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻設備。

主要技術參數

1、適用的掩模尺寸：①100×100×2～3mm　②75×75×2～3mm　③63×63×2～3（選購）

2、適用的矽片尺寸：Φ35～Φ75mm

3、光刻圖形線條：3～4um，最細可達2um

4、掩模與矽片之間的相對位移范圍：X/Y±2.5mm，（旋轉）±6°

5、承片臺（矽片）繞主軸旋轉：粗調360度，可微調

6、承片工作臺綜合移動范圍：X,Y合成Φ75mm

7、承片臺的球座平麵至掩模板麵升降：0～7.5mm

8、曝光燈源：GCQ200W超高壓汞燈，曝光波長：300～436nm

9、曝光系統能量不低於：7mw

10、曝光系統的照度均勻度在Φ75mm范圍內：±5%

11、顯微鏡的照明波長：≈545nm

12、曝光時間控制范圍：0.1秒～99分

13、雙目顯微鏡的放大倍數：①目鏡共二種：10X,16X　②平視場物鏡共三種：6X,9X,15X　③合成放大倍率：60X～240X

14、真空接觸壓力：≥0.7kgf

15、裝箱尺寸：1000×850×980mm（2隻）

16、裝箱重量：210kg

新手教學

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