深圳市昊興科技有限公司設計生產的矩形、圓柱形、圓形等磁控濺射靶，磁場方麵采用有限元方法優化設計，機械部分采用三維圖像輔助設計。磁場采用高強度磁鐵具有鍍膜速度高、均勻性好、靶材利用率高、膜層致密，結合力好等優點。
矩形靶、圓柱靶可長達200厘米以上。並可按用戶特殊要求定做濺射靶。
我們可以提供完善的磁控濺射源維修、翻新及升級等服務，可服務的產品包括各種進口鍍膜生產線和其它所有廠傢生產的濺射源。
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