納優科技NaU-E650型無鹵檢測機技術參數：
測試對象：粉未、固體、液體
分析元素范圍：Na-U
測試時間：100-200s
管壓：10KV-50KV
管流：50uA-1000uA
最佳分辨率：149±5eV
最低檢出限： Cd/Cr/Hg/Br≤2ppm Pb≤5ppm CL≤50ppm
輸入電源 ： AC 220V±10%,50Hz (建議配置凈化穩壓電源)
額定功率：300W
環境溫度：15℃-30℃
環境濕度：30%-80%
樣品腔尺寸：400mm×400mm×100mm
外形尺寸：760mm×440mm×330mm
重量：35Kg
納優科技NaU-E650型無鹵檢測機配置明細：
X熒光光譜機專用光管
高分辨率電制冷半導體探測器
鹵素專用測試系統
多道分析器
增益放大器
零至滿量程可調諧式高壓電源
光管散熱系統（專利技術）
光路優化系統
TCF系統
SSD光路
復合濾光處理系統
內置高清晰CCD攝像頭
自動切換準直器和濾光片（專利技術）
全自動定位測試系統
樣品倉自動開關裝置
三重安全保護模式
標樣
計算機
打印機
*概述：
NaU-E系列能量色散X射線熒光光譜機是納優科技（北京）有限公司研發團隊30多年X熒光分析領域技術沉淀及理念革新的力作，其技術源於納優科技公司研發團隊於2008年7月承接的“十一五”國傢科技支撐計劃項目——綠色制造關鍵技術與裝備（*註1），系列產品均滿足中華人民共和國工業和信息化產業部於2009年7月3日頒佈的《RoHS檢測用X熒光能譜機（XRF）性能評價規范》（*註2），是迄今為止唯一獲得由工業和信息化部電子信息產品污染控制技術促進中心、中國合格評定國傢認可委員會、中國電子技術標準化研究所以及賽西實驗室等聯合頒發的檢測報告暨機器檢測鑒定證書（*註3）的X熒光光譜機產品。其中，最具代表性意義的為NaU-E600及NaU-E800型EDXRF，前者是業界首款實現RoHS及鹵素（著重於氯元素的檢出和測試）一體化測試的新型能量色散X射線熒光光譜機；後者的研制成功，標志著國內X熒光光譜機制造企業完全掌握瞭偏振二次靶X熒光光譜機的研發、生產工藝技術，打破美、日、德、英等發達國傢對中國企業在該領域近20年的技術封鎖和壟斷。二者的成功麵市，是納優科技公司從以往“量”性市場策略邁向“質”性產品戰略的轉折點，此外，產品的簡練外觀設計及註重配置性能等特點也很好地體現瞭這一點！
隨著全球各經濟共同體以及越來越多的國傢出臺眾多環保管控舉措，納優科技公司與各受限企業麵臨同樣的壓力！正是這種壓力，使得納優科技研發團隊重新整合相關資源，攻克重重難關，研制出NDA系列能量色散X射線熒光光譜機，與各受限企業共同應對日益嚴格的環保限令管控。
*註1：項目課題：出口機電產品國際綠色貿易壁壘應對技術及應用；子課題：支持RoHS指令的新型X熒光分析機開發與企業應用；項目組織單位：中國機械工業聯合會；課題負責人：楊李鋒（納優科技公司總經理）。
昆山蘊科機電科技有限公司
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