Ｐ：(liner ratio)電流分配比，以距離比的倒數表示，
      Ｍ：(metal ratio)金屬析出比，
      註：陽極板亦有使用孔狀或網狀者．(以利鍍液流通、均勻)

 

三.均一電著性之影響
　　在電鍍過程裡由外觀來說，提高均一電著性將可得到更 平整的鍍膜，得以提升產品的美觀及附加價值。就提高生產 管理而言，將節省許多的經費，並擴大產量。 　　舉例來說：（例一）有一個電路板鍍金手指的生產業者 ，他的客戶要求在金手指上鍍５um之黃金，但是他發現，如 果要使金手指中間低電流域達到５um時，兩端高電流區域之 厚度已達到１０－１２um，話說回來，如果應用哈林槽試驗 來提升鍍液的電著均一性，將使高低電流區域之鍍膜厚度更 加平均．這樣不但可縮短電鍍時間擴大產量還可節省金屬鹽之消耗，經長久累計，那將是一筆可觀的金錢．
　（例二）有一性酸性鍍鋅者，購得某（大廠牌）的酸性鋅光澤劑經滾桶試鍍後，外觀非常的漂亮，但在後處理的鉻酸鹽液處理後，螺絲牙縫內露出基材－鐵，這時他還是很信任（大廠牌）於是再試一延長電鍍時間，加強過 濾，降低鉻酸鹽之酸含量及浸漬時間之縮短，清潔匯流排（集電導線）調整PH值．．．等，一連幾天問題依舊，最後 換瞭另一傢廠牌的建浴配方及光澤劑才使問題解決。在這個 例子裡，螺絲牙縫（低電流）及牙尖（高電流）的電著厚度 相差很大，都是均一性不良造成的，因此可斷定的說這個大 廠牌在開發過程中忽略瞭哈林試驗的重要，導致信譽受損。 又如果我們的業者能在購入化學品前，將樣品預做哈林試驗 也就不會虛擲瞭時間和人力。
　　由以上簡例我們得知哈林試驗－均一電著性之重要性，這提供我們鍍液的開發改良及生產工程上的均一性管理。在 研究上藉此開發出最優良的配方提升產業水準，在生產管理 上利用此測知鍍液中的各種鹽類（金屬鹽、導電鹽、緩沖鹽 添加劑），ＰＨ值，溫度…　等之變化，對均一性之改變及 影響．
　　有許多業者認為，哈氏試驗槽(HUIIC-EII)已可解決他們 許多研究生管理上的困擾.這是我們都同意的視點,但是在均一 電著性之試驗及應用上,哈氏槽實在很難得到客觀的比較標準 ,因此才有哈林試驗槽的發明及應用. 謹簡咯說明哈林試驗槽之應用,提升吾等鍍金工業之水準 是唯所盼.