主要成分：微米或亞微米級的氧化鋁磨料；
特點：分散性好，粒度均勻，硬度大，拋光效率高；
能滿足高精密光學機器、微晶玻璃基硬盤基片、磁頭、化合物晶體、陶瓷、光纖連接器、硬質合金等方麵的精密拋光要求。
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主要成分：微米或亞微米級的氧化鋁磨料；
特點：分散性好，粒度均勻，硬度大，拋光效率高；
能滿足高精密光學機器、微晶玻璃基硬盤基片、磁頭、化合物晶體、陶瓷、光纖連接器、硬質合金等方麵的精密拋光要求。
